最近對無定形 SI:C:O:H 發光材料的研究表明，濱海大氣等離子清洗機供應商該材料的光致發光特性與薄膜鍵結構、缺陷、納米顆粒和團簇有關。硅油鍵結構可以通過在線等離子清洗機AR等離子處理直接改變。因此，您可以使用在線等離子清洗設備對硅油進行處理，以改變或制備硅油的結構。非晶SI：C：O：H薄膜。具有改性硅油或光致發光特性的非晶 SI:C:O:H 薄膜。

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處理后的材料具有增加和良好的親水性；等離子清潔劑是反應氣體如：六甲基二硅氮烷（HMDSO）、六甲基二硅氮烷（HMDSN）、四甘醇二甲醚、六氟乙烷（C2F6），濱海大氣等離子清洗機供應商通過等離子聚合在表面形成的一種效果納米涂層，這項技術可以應用于許多領域。等離子清洗機的表面改性主要針對高分子材料和金屬的表面改性。聚合物具有分子設計，可以在表面引入各種基團，通過等離子體表面相互作用來改善其性能，如親水性、疏水性、潤濕性和粘附性。

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類似地，減摩涂層可以應用于雨刷，低摩擦涂層可以應用于計算機磁盤，以減少正面碰撞。等離子清洗機最大的特點是無論被處理的基材類型如何，都可以進行處理。金屬、半導體、氧化物和聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、烷烴、環氧樹脂，甚至大多數聚合物材料（如聚四氟乙烯）都易于處理，用于全局和局部清潔和復雜結構。想了解更多低溫等離子清洗機的應用技術，請關注【】 ！。

Plasma Surfacer FinFET 上的多晶硅柵極蝕刻 Plasma Surfacer FinFET 上的多晶硅柵極蝕刻：FinFET 使用 28nm 平面晶體管上使用的雙圖案方法定義柵極線和線端。與平面晶體管的區別在于，FinFET 是 3D 晶體管。多晶硅柵極跨越鰭片，這種差異在等離子表面處理設備的蝕刻工藝中產生了差異。蝕刻后多晶柵的截面形貌對后續工藝有很大影響。

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