PLC+上位機(jī)控制系統(tǒng)，硅膠蝕刻機(jī)器精確控制設(shè)備運(yùn)行，可根據(jù)客戶要求定制，滿足客戶需求;2 .維護(hù)成本低，方便客戶成本控制;3 .精度高，響應(yīng)快，操作性能好，兼容性好，功能完善，有專業(yè)的技術(shù)支持;產(chǎn)品均一率可達(dá)95%，節(jié)省人工，提高效率。本公司生產(chǎn)的清洗設(shè)備適用于印刷線路板、半導(dǎo)體IC、硅膠、聚合物、汽車電子、航空工業(yè)等行業(yè)的清洗。

印刷基材行業(yè):高頻板表面活化、多層板表面清洗、除垢、軟板、硬粘板表面清洗、除垢、軟板活化前加固。在集成電路領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝，硅膠蝕刻設(shè)備用于線材、焊接前的清洗;在硅膠、塑料和聚合物領(lǐng)域的表面粗糙度、蝕刻和活化。。紡織印染行業(yè)——等離子表面清洗機(jī)的應(yīng)用:亞麻、絲綢、亞麻等原料一般透氣、穿著舒適，長期以來受到眾多消費(fèi)者的青睞。

借助真空等離子清洗機(jī)可以提高硅膠的附著力:等離子體由大量自由電子和正離子組成，硅膠蝕刻宏觀上類似于電荷平衡電離氣體。等離子體是另一種聚集態(tài)——等離子體態(tài)，也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中的電子從電場中獲得能量，成為自由的高能電子。當(dāng)它們與氣體中的原子和分子碰撞時(shí)，就會發(fā)生激發(fā)態(tài)分子和電離現(xiàn)象。原子核、正離子和游離基團(tuán)是高度不穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)，容易發(fā)生通常不會發(fā)生的反應(yīng)，從而導(dǎo)致新化合物的形成。

等離子體可以通過單一的處理過程或多種處理的組合得到不同的用途。例如，硅膠蝕刻設(shè)備在等離子體中，通過化學(xué)合成等離子體產(chǎn)生新的化學(xué)物質(zhì)，或通過粒子聚合在表面沉積薄膜。。等離子清洗技術(shù)的成長和發(fā)展也使得等離子清洗設(shè)備在工業(yè)活動中的應(yīng)用越來越廣泛，下面和小編一起來看一下有哪些應(yīng)用呢?口腔領(lǐng)域:對硅膠成型材料和鈦植牙進(jìn)行預(yù)處理，提高其滲透性和相容性。3、使玻璃、塑料、陶瓷、高分子等材料表面活化，增強(qiáng)表面附著力、滲透性、相容性。

硅膠蝕刻

硅膠制品是一種耐熱橡膠，耐高溫，與其他材料相比，硅膠具有生物相容性，制成的制品相當(dāng)耐用，適用于食品、醫(yī)藥和工業(yè)等領(lǐng)域。但是硅膠表面容易被灰塵污染，廠家一般采用化學(xué)噴霧的方法，改善了硅膠產(chǎn)品的親水性表面，但是這種工藝不僅成本高，而且影響生態(tài)環(huán)境，危害人體健康，等離子表面活化設(shè)備工藝綠色環(huán)保不會影響。

——等離子清洗機(jī)在橡膠和塑料制品:我們有很多硅膠產(chǎn)品用于工業(yè)生產(chǎn)過程中會出現(xiàn)一個(gè)連接表面粘結(jié)困難的現(xiàn)象,這主要是因?yàn)楣枘z產(chǎn)品,如聚丙烯,聚四氟乙烯塑料材料并非是負(fù)的,這類原料在沒有表面處理的情況下，包裝印刷、膠粘劑、涂層等都很差，甚至更加堅(jiān)硬。

Azure上的Graphcore IPU預(yù)覽現(xiàn)在開放注冊，致力于推動NLP邊界和在機(jī)器智能領(lǐng)域開辟新領(lǐng)域的開放者可以優(yōu)先訪問。摘自本文。硅膠表面具有表面能低、潤濕能力差、結(jié)晶度高、非極性分子鏈、弱邊界層等特點(diǎn)。環(huán)保(安全)全水性油墨難以附著，包裝印刷和噴漆次品率極低。然而，大多數(shù)高粘性印刷油墨含有有毒的穩(wěn)定劑，如鉛。使用低溫等離子清洗機(jī)，可以得到玩具表面經(jīng)過包裝印刷、噴漆和粘接所需的表面張力。

那么為什么硅很難處理呢?因?yàn)橛醒鯕夥肿颖砻娴墓枘z,負(fù)電極和粉塵靜電感應(yīng)和積極的電極,塵埃和靜電感應(yīng)表面可以互相吸引,所以很難清理,表面和危害產(chǎn)品的外觀和實(shí)際使用效果。因此，經(jīng)過層層的測試結(jié)果后，低溫等離子清洗技術(shù)是處理硅膠表面層最合適的工藝，既能有效地處理表面層，又能改善硅膠的特性。等離子體清洗機(jī)的清洗原理是:主要是激活關(guān)鍵能量的交聯(lián)、材料表面轟擊的物理作用和形成新的官能團(tuán)的化學(xué)作用。

硅膠蝕刻

1、清洗光學(xué)器件、電子元件、清洗光學(xué)透鏡、電子顯微鏡等透鏡和載玻片，硅膠蝕刻設(shè)備去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光刻膠物質(zhì)，清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體、寶石等;牙科領(lǐng)域:硅膠成型材料和鈦牙移植體的預(yù)處理，增強(qiáng)其滲透性和相容性;3、醫(yī)療領(lǐng)域:修復(fù)牙移植體表面預(yù)處理，增強(qiáng)其滲透性、粘附性和相容性，對醫(yī)療器械的消毒滅菌;5、去除金屬材料表面的氧化物;6、使玻璃、塑料、陶瓷、高分子等材料表面活化，增強(qiáng)表面附著力、滲透性、相容性;高分子材料表面改性。