氧氣等離子清洗原理氧氣化學性質比較活潑，具有較強的氧化性，氧氣等離子清洗原理主要是通過與污染物發生氧化反應來清洗物質表面，實現表面狀態改性。
宇宙中99．9%的物質都處于等離子體狀態，等離子體是宇宙中最常見豐富的可見物質形式，包括太陽、恒星、電離層、閃電、極光、星際、高溫火焰等。但是在地球上卻很少有天然等離子體存在，因為地球及其附近大氣的低溫度和高密度阻礙了等離子體的存在。但在地球上層的大氣(電離層)中，存在著由稀薄大氣因光致電離產生的等離子體。在離地球更遠的地方，等離子體在接近真空的空間被地磁場所俘獲。等離子體從太陽流向地球(太陽風)，并充滿星際空間的許多區域，從而形成一種被用以觀察更外層空間的介質。這就意味著要獲得和研究等離子體及其性質，必須用實驗裝置的方法來產生它們。最早是在1927年，當水銀蒸氣在高壓電場中放電時由科研人員發現等離子體。后面的發現是通過多種形式，例如電弧光、激光、石英燈管日光燈管、能源需求的熱核聚變、等離子處理系統等。等離子體的參數范圍很廣，溫度密度皆跨越了數個量級。是由部分被電離的原子及原子團(正離子)以及電子組成的離子化氣體狀物質，整體正負電荷總數相等宏觀呈電中性。
氧氣等離子清洗原理：
氧氣等離子清洗機的工作原理是在儀器的真空工作系統中通入少量的氧氣,在高壓電場及高頻信號發生器產生高頻信號的作用下石英管內形成強的電磁場,在電磁場作用下氧氣電離形成由活化氧原子、氧離子、氧分子和電子構成的混合物，這些混合物就是具有清洗能力的等離子體輝光柱。受力驅使高速運動的活化氧(活潑的原子態氧)將有機分子轟擊成小分子片段，隨后這些小分子片段迅速地被氧化成水,二氧化碳等可揮發性氣體并被機械泵抽走,最終達到清洗效果。
等離子清洗技術的應用始于20世紀初。隨著電子等行業的快速發展，等離子體清洗技術的應用范圍逐漸擴大，在許多高科技領域占據著關鍵的技術地位。目前，等離子體清洗已廣泛應用于半導體和光電子行業，并逐步應用于光學工業、機械工業、汽車工業、航空航天工業、聚合物工業、污染防治等諸多技術領域。近年來，等離子體清洗技術已應用于電子元器件制造、LED封裝、IC封裝、多層陶瓷外殼處理、ABS塑料處理、微波管制造、汽車點火線圈骨架清洗和發動機油封膠處理等領域。氧氣等離子清洗原理00224453