.分子或離子的自由運動距離越長，與金屬附著力好的粘合劑該區域的氣體在電磁振動的攪動下產生的等離子體就越多。高能沖擊作為活性等離子體在真空瞬時高溫條件下物理沖擊并與孔壁中挖掘出的污染物、殘留的粘合劑、油污和其他污染物發生化學反應，使物體表面材料變成部分蒸發的顆粒或氣態物質或被真空破壞并被真空排出，以達到清潔的目的。
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氣體經真空室和接地裝置分解，與金屬附著力強的tpu經輝光放電電離，產生等離子體。在真空室內產生的等離子體完全覆蓋待清潔物體后，開始清潔操作。清潔過程持續幾十秒到幾分鐘。整個過程是依靠等離子體在電磁場中穿越空間，撞擊待處理表面，達到表面處理、清洗、刻蝕的效果（清洗過程為輕微刻蝕）。 ); 污垢和清潔氣體，同時將空氣送入真空室以恢復正常大氣壓。在低壓等離子體技術中，氣體通過提供能量在真空中被激發。
2.短時間內可完成等離子體處理器全流程3.等離子處理器簡單，與金屬附著力好的粘合劑易于操作和維護。它用少量氣體代替了昂貴的清洗液，而且不能同時處理廢液。4.等離子處理器可以深入微孔和凹陷完成清潔工作。5.等離子體處理能保證大多數固體物質的處理，因此其應用范圍是相當常見的。。
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在等離子清洗的情況下，等離子火焰看起來像普通的火焰，但如果等離子清洗機使用中頻電源，功率大，能量強，而且沒有水冷，溫度相當高。 .該材料不耐溫，因此您需要注意溫度。等離子清洗機有兩種常用的電源。一種是13.56KHz的高頻電源。該電源產生高等離子體密度、軟能量和低溫。功率通常為1-2KW。高達5KW，小幾百W，是常用的等離子電源。還有一個40KHz的中頻電源，與射頻電源正好相反。
當等離子體折射率n=0時，波被截斷反射，當n&rarr；&Infin；波與共振質點相互作用并被質點吸收。例如，當波矢k平行于外加磁場時，頻率為W=WCE的非常波與繞磁場回旋的電子共振，頻率為W=WCI的正常波與回旋離子共振，分別為電子和離子的回旋頻率。此時波能被吸收，形成回旋阻尼。對于熱等離子體，粒子的熱運動和有限的回轉半徑引入了新的模態和效應。
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