3、PLASMA處理的表面粗化與蝕刻作用：對應不同的材料采用相應的氣體組合形成具有強烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發生化學反應及物理沖擊，煙霧為什么附著力弱的原因使材料本體表面的固態物質被氣化，生成如CO、CO2、H2O等氣體，從而達到微蝕刻的目的。 主要特點：刻蝕均勻，不改變材料基體特性；能有效粗化材料表面，并能精準控制微蝕量。

由于高溫等離子體對物體表面的強烈作用，煙霧為什么附著力強烈在實際應用中很少使用，目前只在低溫下使用Ionosomes,因為冷等離子體被稱為等離子體短,我希望讀者不會誤解。

圖 1.2 等離子體產生原理（以水為例）等離子體由大量離子和自由電子組成，煙霧為什么附著力強烈整體上表現為近似電中性，與物質的三態一樣，是物質存在的一種聚集態。從宏觀上看，等離子體是一種導電的流體，由等離子體的生成過程可知，當給氣體施加顯著的高溫或高能量時，中性的物質就會被離解成離子、電子和自由基。另外，等離子體本身具有變成為電中性的強烈傾向，等離子體中的電荷分離需要由等離子體本身的內能（熱能）或外加電場來維持。

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化學反應室中的氣體電離是指離子、電子、自由基等活性物質的等離子體，通過擴散吸收于表象介質中，并與表象介質中的原子反應，形成揮發性物質。而且，高能離子在一定壓力下物理轟擊和蝕刻介質的外觀，去除再沉積的化學反應產物和聚合物。介質層的刻蝕是通過化學和物理相互作用完成的。刻蝕是晶圓制造的重要環節，也是微電子IC制造工藝和微納制造工藝中的重要環節。

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等離子技術是一新興的領域，該領域結合等離子物理、等離子化學和氣固相界面的化學反應，此為典型的高科技產業，需跨多種領域，包括化工、材料和電機，因此將極具挑戰性，也充滿機會，由于半導體和光電材料在未來得快速成長，此方面應用需求將越來越大。。

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