處于非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中，高分子聚合物表面改性電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫,這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。 選擇適宜的放電方式可獲得不同性質和應用特點的等離子體，通常，熱等離子體是氣體在大氣壓下電暈放電產生，冷等離子體由低壓氣體輝光放電形成。

處于非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中,電子具有較高的能量,可以斷裂材料表面分子的化學鍵,提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體),而中性粒子的溫度接近室溫,這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。低溫等離子體在材料表面改性方面的許多應用充分顯示了其廣闊的應用前景。

處于非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中，聚合物表面改性的例子電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫，這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。

其中最大的關鍵環節是有機化學沉銅前的PTFE活化預處理，聚合物表面改性的例子也是特別重要的一步。使用聚四氟乙烯聚合物在活化處理前化學沉淀銅的方法有很多，但歸納起來，才能保證產品質量并適合批量生產，主要有以下兩種方法:(1)有機化學處理:金屬鈉與萘在非水溶液(如四氫呋喃或己醇二甲醚)中發生反應，形成萘鈉絡合離子。萘鈉處理溶液可以腐蝕孔內PTFE表面分子，進而達到潤濕孔的目的。

聚合物表面改性的例子

金屬、半導體、氧化物和大多數聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、多氯乙烷、環氧樹脂，甚至特氟龍等，都經過適當處理，可用于整體和局部清潔以及復雜結構。等離子清洗還具有易于使用的數控技術、先進的自動化、高精度的控制設備、高精度的時間控制、正確的等離子清洗，不會在表面產生損傷層，保證表面質量。由于是在真空中進行的，所以不會污染環境，清洗面不會二次污染。gment->。

它具有一個可拆卸和可調節的機架，用于支持多達 14 個電極位置的多個組件。真空等離子處理系統設備是一種高效的等離子處理系統，具有可批量處理的超大型腔。主要附件是使用脈沖13.56MHz射頻發生器來提高等離子聚合膜的性能。該機器是一種經濟高效的真空等離子處理器，旨在處理和清潔各種零件。等離子清洗系統具有水平托架，便于裝卸。干凈、易于維護的設計占用的空間非常小，是系統前后維護的理想選擇。

因此在新能源、新材料、手機制造、半導體、生物醫療和航空航天高分子科學，生物醫藥材料學、微流體研究、微電子機械系統研究、光學、顯微術和牙科醫療等領域得到應用。等離子體技術的發展，促進了等離子表面清洗設備的研發制造，催生出了諸多如 這樣類型的等離子設備廠家，專(業)提供等離子技術解決方案的高新技術企業。

（1）低溫等離子體N（氮）改性；（2）低溫等離子滲碳；（3）低溫等離子涂層改性。二、材料上低溫等離子體發生反應的機理第一步：蒸氣中極少量的自由電荷與室內空間的其他大分子發生碰撞，可以是電場中的蒸氣大分子，也可以是高分子材料表面的大分子鏈。沖突大分子同時接受部分能量，成為激發態大分子，具有活性。第二步：被激發的大分子不穩定，然后分解成離子或保留其能量，停留在亞穩態。

高分子聚合物表面改性

在等離子清洗機過程中很容易對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，聚合物表面改性的例子如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等進行處理。這樣以來讓我們很容易聯想到：去除零件上的油污，去除手表上的拋光膏，去除線路板上的膠渣，去除DVD上的水紋等等所延伸的領域大都能用等離子清洗機解決。

處于非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中，高分子聚合物表面改性電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學鍵,提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫，這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。