這是輝光放電的一個顯著特點，電極上的附著力而且在正常輝光放電中，兩電極間的電壓不隨電流變化。由處于能量活躍的激發態的原子、離子或分子向下躍遷發光而形成的等離子體的顏色。由于每種氣體中的能級有不同的能量轉換，每種工藝氣體表現出不同的發光特性，從而產生不同的顏色特性。

通過在 15-25 kHz 的頻率下保持電極之間高達 80 kV 的電位差，分析氣泡在電極上的附著力可以在高速線上對 3D 對象進行一致的表面處理。在這些條件下，橫截面為 4 英寸 (mm) 的物體在處理室中連續移動，可以在線處理。電表面處理系統由高頻發生器、高壓變壓器和處理電極組成。發生器產生的輸出信號會根據負載阻抗在 15-25 kHz 范圍內自動調整頻率。這優化了可用于治療的功率。

負電暈的擊穿電壓高于正電暈，分析氣泡在電極上的附著力因為正負電暈的放電機制不同，空間電荷分布有利于正電暈。如果兩個電極為小曲率半徑的電極，則形成雙極電暈，正負電暈共存，在外部區域流動的電流是雙向的。它由帶正電和帶負電的粒子組成。在相同條件下，雙極電暈的啟動電壓會低于單極電暈的啟動電壓。電暈放電的機理不同于等離子表面清潔劑。

輝光放電時的氣壓對材料處理效果有很大影響，電極上的附著力還與放電功率、氣體成分、流速、材料種類等因素有關；不同的放電方式、工質狀態以及上述影響等離子體產生的因素可以組合成各種低溫等離子體處理設備；。由于等離子體處理只作用于材料的表層，處理后材料表面的物理化學變化也發生在這一層，所以在研究等離子體處理的時效性時，主要采用一些關于材料表面的物理化學分析方法。

電極上的附著力

根據物質反應原理，等離子體火焰機清洗一般是由無機氣體引起的等離子體氣相材料吸附在固體表面上的吸附基團與固體表面分子發生反應，產物的形成分子分析，產物的形成分子分析，氣相反應殘留物的形成和表面分離。目前，等離子清洗機主要采用箱式清洗機對機架或芯片進行清洗，等離子清洗機通常由清洗室、氣源、動力源和真空泵四部分組成。

一方面，大氣壓等離子體處理器的電離輻射釋放能量，造成等離子體能量的損失。同時，一些氣體電離輻射也會激發光離子化，從而有效地激發反應體系。 ，等離子電離輻射攜帶大量等離子內部信息。基于電離輻射頻率和強度研究或時間分析，可以診斷等離子體密度、溫度和粒子狀態，并可以獲得有關反應過程的相關信息。在大氣壓等離子體處理器中，等離子體具有三種主要的電離輻射過程：激發電離輻射、復合電離輻射和源電離輻射。

等離子體清洗機的等離子體活化蝕刻：材料表面蝕刻-物理作用等離子體清洗機生產過程中產生的大量離子、激發分子、自由基等活性顆粒作用于固體樣品表面，不僅去除了表面原有的污染物和雜質，還會產生蝕刻效應，使樣品表面變得粗糙，形成許多細小的坑洞，從而增加了樣品的比表面積。提高固體表面的潤濕性。

適用于鋸片、晶圓減薄、晶圓拋光和研磨等去離子水清洗工藝。尤其是 CVD 用于晶圓拋光后的清潔。單晶等離子發生器的應用與自動清洗臺的應用沒有太大區別。兩者的主要區別在于清洗方式和精度要求，其中 45nm 是一個重要的邊界。自動清洗臺是一種多層同時清洗，設備成熟，產能高，但單晶清洗設備是逐層清洗，背面傾斜，清洗精度高，所以背面是可以有效清洗。防止傾斜表面和邊緣、晶片的相互污染。

分析氣泡在電極上的附著力

用于金屬表面除油和清洗的等離子表面處理設備等離子表面處理設備最早出現在德國，電極上的附著力是世界上最早的研發和實踐場所。最早只是常溫等離子設備。隨著科學技術的發展，出現了低溫低壓等離子體設備和等離子體射頻電源。深圳是一家與德國等離子技術等離子設備制造商合作的公司，也是中國區總代理公司，建立了長期的友誼。等離子清洗機設備主要用于清洗、蝕刻、砂光和表面制備等，采用三種不同的射頻發射器，滿足不同清洗效率和清洗效果的需要。

表 3-3 顯示了各類催化劑在大氣等離子體等離子體影響下的催化活性。從表3-3可以看出，電極上的附著力在純等離子體條件下，C2H6和CO2的轉化率分別為33.8%和22.7%，C2H4和C2H2的總收率為12.7%。在反應體系中引入負載型稀土氧化物催化劑（LA2O3/Y-AL2O3和CEO2/Y-AL2O3）提高了C2H6的轉化率，提高了C2H4的選擇性和收率，提高了C2H2的選擇性和收率。率略低。