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相信,不久以后,等離子清洗設(shè)備和工藝就會(huì)以其在健康、環(huán)保、效益、安全等諸多方面的優(yōu)勢(shì)逐步取代濕法清洗工藝,特別是在精密件清洗和新半導(dǎo)體材料研究和集成電路器件制造業(yè)中,等離子清洗應(yīng)用前景廣闊。我們針對(duì)等離子清洗的工藝也現(xiàn)在已經(jīng)進(jìn)行了一定程度研究,希望和各國(guó)同行就干法清洗工藝進(jìn)行有益的探討和交流。。

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腔體的運(yùn)行受到很多限制,比如處理過(guò)程中等離子體的種類和反應(yīng)速度,處理效率中電能轉(zhuǎn)化為等離子體密度的方式,以及處理過(guò)程中一些原材料的消耗等。在等離子發(fā)生器輔助制造業(yè)。

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