這主要是由于表面催化。當顆粒進入表面時，軟板等離子去膠設備它們會在表面發生化學反應，產生和釋放揮發性產物。這個過程稱為化學濺射。 5) 反向散射、再發射和移植。當離子或中性粒子進入固體時，與固體中的原子發生碰撞，逐漸失去原有的能量。最終，部分能量殘留并從后向散射的固體表面釋放出來，或者與固體原子達到熱平衡并逐漸擴散到表面再釋放出來，這是有可能的。這是重新發射。這些粒子沿固體深度形成分布，稱為注入，尤其是在高能下。 6) 發泡。

在沒有絕緣介質阻擋的情況下，軟板等離子體表面處理設備極板氣隙中的帶電粒子傾向于以非常快的速度向兩個極板移動。很難被氣流吹掉，而且當兩塊極板被吹掉時，每塊極板都被絕緣片覆蓋后，這些帶電粒子會到達絕緣介質的表面而不是極板。當施加于雙極板的高頻交流電源電壓反向時，雙極板間隙中的空氣在強電場的作用下再次雪崩并電離，電流立即被切斷，產生一個脈沖陡峭的電流曲線。此時，基質空氣中仍有帶電粒子，繼續向兩端的極板移動。

至于性別，軟板等離子去膠設備這是一個明顯的進步。我們研討會和展廳的朋友自己嘗試過，它肯定要柔和得多。但柔軟就是柔軟。根據我們SI的一些理論，它肯定對我們高速信號的功能有一定的影響。這使跡線的參考平面保持不變，并且阻抗繼續變化。這似乎不符合確保參考平面對于高速信號完好無損的基本原則。但是測試結果還沒有沒有朋友那么糟糕，所以我們也不會太悲觀。至少在10GHz以內，還是很線性的，損耗沒有明顯變化。不同之處。

發射光譜的譜線特征提供了關于等離子體內部化學和物理過程的豐富信息，軟板等離子體表面處理設備通過測量譜線的波長和強度，可以識別等離子體中存在的各種離子和中性基團。被識別。氣壓等離子清洗裝置的發射光譜分為線光譜、帶光譜和連續光譜。線譜和帶譜是等離子體發射光譜診斷的主要依據。原子光譜通常是線性光譜。例如，氫原子的光譜是一個簡單的原子光譜。有一個獨立的光譜系統。可見光區只有一條線，巴爾默線。四個較亮的線具有以下光譜線。

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& EMSP; & EMSP; ③ 電弧發射區 & EMSP; & EMSP; 當電流超過10-1A且氣壓較高時，正柱區產生的焦耳熱大于顆粒在壁面產生的熱擴散 當正極柱中心的氣體溫度升高時，氣體電導率上升，電流集中在正極中心，出現不穩定收縮現象。 & EMSP; & EMSP; 最后導電正極柱收縮到熱電電流密度大的電弧稱為電弧放電。

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