真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁場，鍍層厚度及附著力檢測儀用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光，等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，達到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有(機)物，以及其它化學物質，從而達到表面處理、清洗和刻蝕效(果)，經過等離子處理工藝可以實現有選擇的表面改性。
因此，鍍層厚度及附著力檢測儀如果發現等離子體表面墊圈的側壁蝕刻的主蝕刻步驟的終點監測被暴露，則立即停止蝕刻并切換過蝕刻步驟。主刻蝕步驟中殘留的氮化硅膜通過過刻蝕步驟被刻蝕去除，同時停止在氧化硅膜上，以防止損壞下面的硅襯底。過蝕刻步驟通常使用 CH3F 或 CH2F2 和 O2 氣體的組合。 CH3F 氣體分解為 CHx 和 F. + H。等離子體中的撞擊離子會破壞 Si-O 鍵。
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低壓真空等離子清洗機是依靠等離子狀態下的物質活化，鍍層厚度和附著力去除物體表面污漬的清洗設備。這就是工業清洗中的干洗，真空泵必須創造真空條件才能滿足清洗要求，所需要的等離子體主要是在真空、放電等特殊情況下產生特定的氣體分子，如低壓氣體燦爛等離子體。等離子體清洗必須在真空中進行，所以要用真空泵來完成真空工作。
鍍層厚度和附著力
，是一種常用的等離子電源。還有一個40KHZ的中頻電源，與射頻電源相反，等離子密度沒有那么高，但強度大。能量高，高度也高。功率也很高，大功率幾十千瓦，理論上幾百千瓦，一般用于去污、蝕刻和真空等離子清洗機。如果使用中頻電源，需要加水冷。也是常用的等離子電源。
鍍層厚度及附著力檢測儀
