離子撞擊破壞清洗表面，微波激發等離子體削弱化學鍵，形成原子態，容易吸收反應物，正離子碰撞加熱被清洗物體，使其更容易發生反應。中頻和高頻等離子清洗機用什么電源？常用的等離子體激發頻率有三種：超聲波等離子體和13種激發頻率為40 kHz的等離子體。56MHz等離子是高頻等離子，2.45GHz等離子是微波等離子。不同的等離子體產生的自偏壓是不同的。

注意，微波激發等離子體一般情況下，只要工件表面能達到60達因，就具有良好的附著力，才能獲得良好的噴涂效果。一個典型的例子是使用真空等離子清洗系統活化玻璃纖維增??強尼龍材料。這種材料通常很難噴涂，即使是最好的底漆也不起作用，但在真空等離子清潔系統中激活后，它可以以幾乎 % 的成功率進行噴涂。國內最早生產等離子清洗系統的廠家之一，專業從事真空及低溫等離子（等離子）技術、射頻及微波等離子技術的研發、制造和銷售。

廣泛應用于生產制造的日常生活中，微波激發等離子體配備等離子技術、傳統清洗方式無法實現的效果、超強清洗劑、等離子清洗機。 1、等離子清洗機 表面清洗液 真空系統等離子技術 在一個腔體中，混沌等離子技術通過微波射頻交流電源在特定氣壓下產生高效能量，清洗后的產品被等離子轟炸。用于清潔目的的表面。 2、等離子清洗機表面活化液提高表面能和親水性，不斷提高等離子技術處理過的物品的附著力和附著力。

等離子清洗機等離子處理技術在微波印制電路板中的應用研究由于其耐高溫耐磨性和耐化學性，微波激發等離子體原理廣泛用于高頻零件和密封件，例如配備氟密封環的微波印制電路板。但由于聚四氟乙烯表面能低，化學性能非常穩定，在零件的制造過程中很難進行金屬化表面涂層和接合等加工工作，需要先進行表面處理。加工困難或加工后可靠性低。等離子清潔劑 等離子是一種電離物質，是一種含有電離電子和自由基的物質狀態。

微波激發等離子體原理

大多數等離子廢物處理系統使用等離子炬來產生等離子能量。另一種設計使用直流 (DC) 電弧等離子體。此外，還有關于使用高頻等離子體[12]和微波等離子體[13]處理危險廢物的研究，本文未涉及。 1 作者簡介：于心瑤，男，1981年出生，碩士研究生，危險廢物等離子無害化處理應用研究。

不同等離子體的自偏壓不同。超聲波等離子的自偏壓約為 0V，而高頻等離子的自偏壓約為250V。微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏。三種等離子體形成機制是不同的。超聲波等離子體的反應是物理反應，高頻等離子體的反應是物理反應和化學反應，微波等離子體的反應是化學反應。由于超聲波清洗對被清洗表面的影響最大，因此在現實世界的半導體制造應用中經常使用兩種清洗方法，即射頻和微波。

由于等離子體的作用，納米粒子表面產生大量羥基（-OH）等活性基團，硅烷偶聯劑水解產生的硅烷醇鍵反應形成氫鍵。納米粒子表面經等離子體處理后，出現強吸收峰，硅烷偶聯劑與納米粒子形成良好的相互作用，大量硅烷偶聯劑包覆在納米粒子表面，如圖所示。 等離子處理和非等離子處理的納米粒子的吸收峰基本相同，表明等離子處理并沒有改變納米粒子本身的化學鍵。

等離子：在真空室內產生的等離子完全覆蓋清洗后的工件后，開始清洗操作，清洗過程持續幾十秒到幾分鐘。大多數物理清潔過程需要高能量和低壓，因為它們依靠等離子體在電磁場中移動并撞擊待處理的表面。原子和離子在與要清潔的表面碰撞之前達到高速。為了加速等離子體，需要高能量來增加等離子體中原子和離子的速度。為了增加碰撞前原子之間的平均距離（稱為平均自由程），需要降低壓力。這條路徑越長，離子在物體表面被沖洗的可能性就越大。

微波激發等離子體

等離子清洗機的電源是常用的13.56KHZ高頻電源，微波激發等離子體產生的等離子密度高、能量軟、溫度低。中頻電源為40KHZ，但與高頻電源不同，等離子體密度不高，但功率大，能量高，大功率幾十KW。等離子真空吸塵器 Discharge RF Cleaner 的溫度與正常室溫相同，當然，即使您整天使用真空等離子清潔器，您也需要在冷卻系統中加水。等離子射流的平均溫度在 200 到 250 攝氏度之間。

等離子清洗機的清洗原理和特點 等離子清洗機的清洗原理和特點 等離子，微波激發等離子體通過等離子沖擊清洗的產品表面，以達到清洗的目的。在這種情況下，等離子處理可以產生以下效果： 1、在真空和瞬間高溫下，被焚燒的表面有機層中的污染物部分蒸發，污染物被高能離子破壞，被真空去除。紫外線會破壞污染物。等離子處理每秒只能穿透幾納米，因此污染層不應太厚。指紋也可以。 2. 氧化物去除 該處理涉及使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。