要完成這些基本功能，高附著力樹脂如何選擇除了對自放電方式和電極材料結構的規定外，加工工藝中混合氣體的選擇也非常關鍵，尤其是刻蝕的基本功能。
在ICP方向上，高附著力的墨盒有什么區別學院派提出了類似的思路，即在同步脈沖的基礎上，在上電極（負極）或下電極（正極）上加直流。由于等離子體清洗機ICP的源射頻與偏置射頻之間的耦合可以忽略，這種直流脈沖的引入可以實現不同材料間高選擇性刻蝕的精確控制，達到ALE刻蝕邊界，遠優于傳統的基于氣體脈沖的刻蝕ALE蝕刻4步法（吸附、排空、反應、排空）。
活化處理工藝，高附著力的墨盒有什么區別常壓等離子體清洗機就是為此而誕生的。常壓等離子清洗機，無論是配合三軸平臺、輸送機，還是安裝在整條流水線上，都能快速激活被處理材料的一個表面。而真空等離子體設備是以其高性能，特點是質量高、品質優、產品安全，處理效果精準全面，而且很多產品本身存在材料問題，無法使用像常壓等離子體設備這樣溫度相對較高的等離子體設備，此時可以選擇真空等離子體設備。
其中，高附著力樹脂如何選擇等離子態的氣體在高頻電下產生高速的電子直接撞擊門板表面的雜質分子，使雜質分子分解成小分子；另外，產生高速的電子與雜質分子發生碰撞，在碰撞的過程中與等離子態氣體發生反應。在碰撞反應的整個過程中，氣體分子在被電流激發和電離后，分子產生了大量活躍粒子，這些活躍粒子與門板表面的雜質分子因為撞擊發生化學反應，將雜質分解成易于揮發的物質而將其吸走。
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等離子清洗、刻蝕產生 plasma清洗裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子問距及分子或離子的白由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光。等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。
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氣體溫度為50-250℃或更低。激發分子之間會發生一系列相互作用（彈性或非彈性碰撞）。 & EMSP; & EMSP; 在電子與氣體分子的彈性碰撞中，只有少量的電子能量傳遞給氣體分子，氣體溫度升高。在非彈性碰撞中，電子會失去更多的能量并刺激內部運動。振動、旋轉或電子躍遷等分子會產生離子、自由基或亞穩態活性物質。
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