所以整個真空等離子體是電子和離子的混合物，奉賢防腐涂料附著力檢測激發的原子，原子和自由基。因為各種化學反應都是在高激發態下進行的，與經典化學反應完全不同。因此，真空等離子體的原子或分子性質通常會發生變化，即使是穩定的惰性氣體也會變得非常強。真空等離子體由真空產生系統、電氣設備自動控制系統、等離子體發生器、真空室架、機械等組成。真空系統和真空腔可根據客戶特殊要求定制。
PFM的主要作用是：有效控制進入等離子體的雜質；有效去除輻射到材料表面的熱功率；在非正常停機時保護其他部件免受等離子轟擊造成的損壞。同時，防腐涂料附著力要求面對等離子體的材料應與反應堆的運行壽命、可靠性和維護相一致。因此，等離子體材料的一般要求是耐高溫、低濺射、低氫（氚）保留率以及與結構材料的相容性。碳基材料和鎢是Z的有前途的P調頻候選材料。
簡而言之，防腐涂料附著力要求自動清洗臺是多片同時清洗，其優點在于設備成熟，產能高，而單片清洗設備則是逐片清洗，優點在于清洗精度高，可以有效地清洗背面、斜面和邊緣，同時避免晶片之間的交叉污染。在45nm以前，自動清洗臺即能滿足清洗要求；而低于45nm時，依靠單晶圓清洗設備來達到清洗精度要求。當今后半導體工藝節點不斷減少時，單晶圓清洗設備成為可預測技術下的主流清洗設備。工藝點減少擠壓良率，促進清洗設備的需求上升。
如此產生的電離氣體叫做氣體放電等離子體。大氣等離子清洗機按所加電場的頻率不同，防腐涂料附著力要求氣體放電可以分為直流放電、低頻放電、高頻放電、微波放電等多種類型。直流（DC）放電因其簡單易行，特別是對于工業大氣等離子清洗機裝置來說可以施加很大的功率至今仍被采用。低頻放電的范圍一般是1- kHz，現在裝置常用的頻率為40kHz。
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在等離子體中，由于電子的速度比重粒子快，絕緣體表面會出現凈負電荷積累，即表面相對于等離子體區域有負電位。表面區域的負電位排斥隨后向表面移動的電子，并吸引正離子直到它們熄滅邊緣表面的負電位達到一定值，使離子電流等于電子電流。此時絕緣體的表面電位Vf趨于穩定，Vf與等離子體電位之差（Vp-Vf）保持恒定。此時，在絕緣體表面附近有一個空間電荷層，這是一個離子鞘層。
等離子清洗的原理是在射頻電壓激勵下，低壓氣體產生活性等離子體，等離子體通過物理碰撞或化學反應等方式分解多余物，有效地去除材料表面污染物。利用等離子清洗的機理，選擇充入的氣體可以分成反應性氣體和非反應性氣體分別對應化學反應和物理反應。反應性氣體經過電離后產生等離子體，利用體內自由基與表面污物的反應生成新物質，且易揮發，并被真空泵排出體外，從而去除了有機污物。
由于半導體和光電材料在未來的快速成長，此方面應用需求將越來越大。 始創于1998年，是國內最早一批從事真空及大氣低溫等離子體（電漿）技術、射頻及微波等離子體技術研發、生產、銷售于一體的國家高新技術企業 。
自動等離子清洗機的等離子離子和電離度：一般來說，組成自動等離子清洗機的等離子的基本粒子是電子、離子和中性粒子。電子密度為NE，離子密度為NJ，中性粒子密度為NG。顯然，對于在單一大氣中只有一次電離的等離子體，NE = NI 和 N 可以用來表示任一帶電離子的密度，稱為等離子體密度。
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