1-2. 芯片等離子清洗工藝及效果 1. 功率:300W 2. 氣體:氧氣/氬氣/氫氣。 3.處理時間:120S(時間可再次優(yōu)化) 4.治療前接觸角達到80度,附著力和表面達因治療后達到20度; 5、治療前達因值:32達因↓,治療后達因40↑;PS:射頻功率200W~600W,氣壓 MT~120MT或140,使用AR 等離子體并將樣品放在接地板上。

附著力和表面達因

處理這些部件可能會在皮膚上留下油脂、環(huán)境污染表面,附著力和表面達因并對數(shù)據(jù)處理產(chǎn)生不利影響??赡馨l(fā)生的第二個陷阱是在進行下一個過程之前等待很長時間。所有數(shù)據(jù)對處理的響應不同,并且具有不同的處理衰減因子。在處理數(shù)小時或數(shù)天后,處理過的表面失去一些達因峰值水平的情況并不少見。在達因測試的同時,有些材料在很長一段時間內(nèi)都保持正常水平,但如果材料長期不進行處理,它會慢慢恢復,并且表面可能會被灰塵和氧化物污染。開箱后的材料。

首先介紹了達因特離子清洗機的結構,附著力和行阻力是什么意思主要由電子元件、運行控制、電源、源處理、安全保護等兩部分組成。其次,等離子體處理裝置,它由激發(fā)電極,激發(fā)氣路等組成。 等離子清洗機釋放出用在這類物質表面上的一些化學鍵,使其形成小分子的產(chǎn)物或被氧化成金屬,等等,這些產(chǎn)物通過抽氣過程被抽走,使材料表面變得凹凸不平,粗糙度增加。

但當充入多種氣體時,附著力和表面達因需要考慮的因素就更多了,比如選擇的氫氣純度越高,產(chǎn)生的氫離子就越多,相應的氧化物清洗速度就越快,雖然提高了反應效率,但不可忽視的是氫氣作為易燃易爆氣體,具有很高的危險性。因此,在考慮充填混合氣體時,通常將氫氣與氬氣等其他氣體充填,氫氣比例應處于相對安全的位置,才能使效率最大化。對不同物質的清洗,需要探索更好的方法和工藝,不斷提高清洗效果。。壓縮氣體是現(xiàn)代工業(yè)不可缺少的一部分。

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等離子設備中的分子一般由幾個原子組成,由于這些原子相互作用,分子能級比原子能級復雜,而且氣體分子的激發(fā)和電離也不同于氣體原子的激發(fā)和電離。除了電子能量,分子的內(nèi)能還包括振動能和轉動能,這些能量也是分離的,能量級圖非常復雜。

若在真空泵排氣口看到白色煙氣,可能是泵內(nèi)排出的油霧,與離子表面處理機本身無關;此問題可通過更換適當?shù)挠挽F過濾器來解決。 實際處理過程復雜多變,非專業(yè)人員請勿輕易操作,更多等離子設備詳細信息解決方案歡迎來電咨詢。。

如果您對等離子表面清洗設備還有其他問題,歡迎隨時聯(lián)系我們(廣東金萊科技有限公司)

CF4和O2輸入等離子體機真空腔后,在等離子體發(fā)生器的高頻高壓電場作用下,CF4和O2氣體解離或相互作用,產(chǎn)生含有自由基、原子、分子和電子的等離子體氣體氣氛:O2+CF2→O+OF+CO+COF+F+E+等離子體中的自由基和正離子與孔壁上的高分子有機物質(C、H、O、N)發(fā)生反應。

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