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2004年辭去應(yīng)用材料公司副總裁職務(wù)回國(guó)在上海創(chuàng)辦中微半導(dǎo)體設(shè)備股份有限公司目前研發(fā)的等離子體清洗機(jī)CCP刻蝕機(jī)具有超高頻低頻混合射頻解耦反應(yīng)等離子體源和獨(dú)特的多反應(yīng)室雙反應(yīng)臺(tái)系統(tǒng),在刻蝕28nm邏輯低介電材料和存儲(chǔ)器介電材料方面取得突破性進(jìn)展,進(jìn)入市場(chǎng)。

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