介質阻檔放電可以在常溫常壓中穩定進行，光引發劑與附著力產生連續的等離子源，且放電設備造價合理，因此確保了其在工業化應用時的成本和連續性；其次，介質阻檔放電能夠通過反應性氣體（如氧氣）產生能夠活(化)復合材料表面的粒子，可以確保表面能夠提高足夠的膠接強度。
等離子表面處理的優點與設備原理真空等離子清洗機是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質，光引發劑與附著力等離子清洗/刻蝕產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光，等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，達到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有機物，以及其它化學物質，從而達到表面處理、清洗和刻蝕效果，經過等離子處理工藝可以實現有選擇的表面改性。
但是，光引發劑與附著力這種方法在產生粉塵污染環境的同時，不容易達到提高制件表面粗糙度均勻的目的，容易導致復合材料制件表面產生變形破壞，從而影響制件粘接面的性能。所以可以考慮采用。一種可控制、可控制的等離子清洗設備技術，在改善材料表面的物化性能的同時，有效、精確地清除污染物，從而獲得較好的粘接性能。。
等離子體處理設備的清洗范圍是納米有機和無機污染物。低壓氣光等離子體主要用于等離子體發生器的加工和應用。一些非聚合物無機氣體(ar.n2.h2。O2等)在高頻和低壓的刺激下產生各種活性粒子，光引發劑與附著力如離子、激發態分子和自由基。等離子體發生器加工可分為兩類:一類是稀有氣體等離子體(如Ar.N2等);另一類是活性氣體等離子體(如O2、H2等)。這些活性粒子可以與表面物質發生反應，刺激狀態分子清潔活化表面。
光引發劑加多附著力不好嗎
射頻等離子體(激發頻率13.56MHz)涉及物理響應類型和化學響應類型。(2)工作氣體類型對等離子體清洗類型也有一定的影響。例如，惰性氣體如Ar2、N2激發的等離子體主要用于物理清洗，通過脫殼效應使數據表面清潔。活性氣體O2、H2等興奮等離子體主要用于化學清洗,與活性自由基和污染物(主要是碳氫化合物)化學反應,一氧化碳,二氧化碳,水和其他小分子,從表面數據。(3)等離子體清洗的類型對清洗效果有一定的影響。
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