等離子體按溫度分類,可以分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種;高溫等離子體溫度一般超過8910~10K,處于該狀態的粒子有足夠的條件相撞,達到了核聚變的條件,如太陽的核聚變、太陽風等都可以產生高溫等離子體。低溫等離子體又可以分為熱等離子體和冷等離子體,熱等離子體溫度在2410~10K之間,它具有統一的熱力學溫度,即電子與重粒子溫度基本相同,基本達到熱力學平衡狀態;冷等離子體的溫度接近常溫,其中重粒子溫度基本處于常溫下,而電子溫度卻高達104K以上,不處在熱力學平衡狀態。
低溫plasma等離子清洗機是通過施加高能量電場,破壞氣體原有的平衡狀態,形成接近環境溫度的低溫等離子體。一般來說等離子清洗機的清洗溫度并不高。我們常見的等離子清洗機分為兩類,一類是真空等離子清洗機,和大氣常壓等離子清洗機。下面就介紹一下兩種類型的等離子清洗機溫度分別是多少。
一般來說真空plasma等離子清洗機的清洗溫度要低于常壓plasma等離子清洗機,等離子激發頻率為13.56MHz的真空等離子清洗機,清洗溫度為50~60℃。清洗溫度會隨清洗時間和清洗功率的增加逐漸升高。
激發頻率為40KHz的真空plasma等離子清洗機電源功率一般都比較大,溫度一般也比較高,清洗溫度70~100℃。因此一般大型的中頻真空等離子清洗機真空腔室都配有水冷電極托盤,防止清洗溫度過高對產品造成損傷。
常壓plasma等離子清洗機的正常清洗溫度一般在70-80℃,常壓等離子清洗機的清洗溫度,跟清洗噴頭的移動速度有很大關系,如果處理速度快,產品表面的溫度就很低,如果一直對著一個點處理,處理溫度就會逐漸上升,有可能對產品造成損傷。目前的話,常壓等離子清洗機也開發出來了溫度更低的款式,其正常工作時的溫度在30℃左右。這對于一些對溫度比較敏感的材料來說是非常有優勢的。
一部分微電子集成電路器件工藝生產過程中,比如已封裝芯片的攝像頭組件,需要等離子清洗機進行表面處理增加活性和去除污染物,但是在輝光處理時,由于等離子體具有一定的溫度,帶電粒子的熱運動,會對組件表面進行物理轟擊和化學反應的雙重作用,同時組件放置在電極托盤上(正負電極)充當了等離子電源的負載,也成為了正負電極。處理時間越長,金屬電極托盤和工件皆有不同程度的升溫。而這些材料特性在超過比如35℃時,會變形變色熱損傷,導致工件廢件。這種情況下,即使是射頻等離子清洗機也應該配有水冷系統,防止溫度過高,造成的熱損失。24285