常壓等離子設備的優點： 常壓等離子設備不需要氣態物質，硬板等離子體表面處理設備降低清洗成本。 B 大氣壓等離子設備與自動化設備結合使用，提高清洗能力。 C 大氣壓等離子器具使用輝光。清潔非常全面。不用擔心材料外層的不均勻，就無法獲得清潔（效果）效果。D 大氣壓等離子設備可以同時加工金屬、塑料、半導體、氧化物或聚合物材料。 E 大氣壓等離子設備主要分解（有機）污染物，因此無需擔心污染或健康危害。

等離子清洗機是主要用于清洗電子元件的環保型機械設備，硬板等離子去膠機用于表面蝕刻、等離子鍍膜、等離子鍍膜、等離子灰化、表面改性等，功能強大。由于低溫等離子表面處理機使用氣體作為清洗劑，可以有效避免液體清洗劑對衣物的二次污染。該裝置與真空泵相連，清洗室中的等離子體在操作過程中輕輕地清洗待清洗物體的表面。短暫清洗后可用真空泵去除污染物，清洗程度達到分子水平。

(4)真空等離子裝置清洗后，硬板等離子去膠機切斷高頻電壓，排出氣體使污垢蒸發，同時向真空室吹氣，使氣壓升至大氣壓。與過去相比。對于濕法工藝，真空等離子設備有八個優點： (1)真空等離子設備清洗后，被清洗物非常干燥，無需干燥即可送入下道工序。 (2)不使用有害的三氯乙烯ODS溶劑，清洗真空等離子裝置后不會發生。危險雜物是一種環保環保的綠色沖洗方式。 (3)在電磁波范圍內高頻產生的等離子體是激光等直射光，其方向性不強。

等離子沉積膜使用等離子聚合介電膜來保護電子元件，硬板等離子去膠機等離子沉積導電膜用于保護電子電路和設備免受因靜電荷累積而損壞，等離子沉積膜用于制造電容器。元素。在電子工業、化學工業、光學等領域有許多應用。 (1) 硅化合物的等離子體氣相沉積。使用 SIH4 + N2O [或 SI (OC2H4) + O2] 創建 SIOXHY。氣壓1-5 Torr (1 Torr & ASYMP; 133 Pa)，電源13.5MHz。

硬板等離子體表面處理設備

3、通過在PLASMA真空等離子清洗機的真空室中的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體分解，產生輝光放電，產生等離子，對被加工的工件進行加工。 .完全覆蓋真空室內產生的等離子體并開始清潔。清潔時間通常是幾十秒到幾分鐘。蝕刻劑允許等離子蝕刻印刷電路板，提供更好的粘合性能，如附著力和裝飾性。 4、清洗完成后，關閉電源，排盡氣體，用真空泵將污垢蒸發掉。

使用內部預設程序和使用各種氣體產生化學活性等離子體很容易進行材料和樣品表面的清潔、脫脂、還原、活化、去除，如光刻膠、蝕刻、涂層等。我可以做到。在用原子力顯微鏡 (AFM)、掃描電子顯微鏡 (SEM) 或透射電子顯微鏡 (TEM) 對樣品進行相位調諧之前，先使用氧等離子體去除附著在樣品表面的碳氫化合物污染物，從而獲得更好的分辨率和真實的材料結構信息。

它是一種無需對零件進行機械改動的非破壞性工藝，適應潔凈室等惡劣條件，使用方便、靈活、操作方便，對各種形狀的零件有很大的加工效果。工藝條件。而且成本低。 ，見效且時間短。處理過的產品外觀不受等離子處理的高低溫影響，零件發熱少。等離子清洗機具有運行成本低、工藝安全性高、運行安全性高等優點，加工后的清洗效果也很突出。等離子清洗機原理及應用等離子清洗機以氣體為清洗介質，有效避免了液體清洗介質對被清洗物體的二次污染。

發生器可以產生非常純凈的等離子體，持續的使用壽命取決于高頻電源的電真空裝置的壽命，一般較長，約2000-3000小時。在等離子體的高溫下，不存在參與反應的物質被電極材料污染的問題，因此可用于溶解藍寶石、無水晶體、單晶等高純度持久性材料的提純。晶體、光纖、精煉鈮、鉭、海綿鈦等(2)高頻等離子流速慢(約0～10m/s)，弧柱直徑大。近年來在實驗室廣泛使用，對許多等離子工藝實驗都有用。

硬板等離子去膠機