除此之外，親水性的胺類化合物低溫等離子體在去除織物上其它雜質如色素、蠟質、果膠等也具有很好的效(果)。用氧或空氣等離子體(頻率13.56mhz，真空度1torr，放電功率 w)處理棉坯布后的芯吸性與工藝條件之間的關系，用空氣等離子體處理60s，氧等離子體處理在30s后，棉布的除蠟質和漿料的效(果)達到正常煮煉漂白的程度。

除此之外，煮煉能增加親水性的表活低溫等離子體在去除織物上其它雜質如色素、蠟質、果膠等也有很好的效果。用氧或空氣等離子體（頻率13.56MHZ，真空度1Torr，放電功率100W）處理棉坯布后的芯吸性與工藝條件之間的關系，用空氣等離子體處理60s，氧等離子體處理在30s后，棉布的除蠟質和漿料的效果達到正常煮煉漂白的程度。

用氧或空氣等離子體（頻率13.56mhz，親水性的胺類化合物真空度1torr，放電功率 w）處理棉坯布后的芯吸性與工藝條件之間的關系，用空氣等離子體處理60s，氧等離子體處理在30s后，棉布的除蠟質和漿料的效果達到正常煮煉漂白的程度。

正如將固體變成氣體需要能量一樣，親水性的胺類化合物產生離子也需要能量。一定量的離子是帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）的混合物。離子導電并且可以對電磁力作出反應。隨著溫度的升高，物質從固態變為液態，從液態變為氣態。當氣體溫度升高時，氣體分子被分離成原子。隨著溫度繼續升高，原子核周圍的電子與原子分離，形成離子（正電荷）和電子（負電荷）。這種現象稱為“電離”。通過電離而帶有離子的氣體稱為“等離子體”。

親水性的胺類化合物

科學家預測：二十一世紀低溫等離子體科學與技術將會產生突破，低溫等離子清洗機、等離子處理機、等離子表面處理設備在半導體工業、聚合物薄膜、生命科學、等離子體合成、等離子體三廢處理等領域相對傳統工藝將有革命性的改變。

在線等離子清洗設備在HDI板材的盲孔清洗過程中，一般將等離子體分為三個階段：用高純N2生產等離子體，同時對印刷板材進行預熱，使聚合物材料處于一定的活化狀態；第二階段，以O2、CF4為原始氣體，混合后產生O、F等離子體，與丙烯酸、PI、FR4、玻纖等反應，達到凈化效果；第三階段，以O2為原始氣體，以O、F為殘留反應，使孔壁保持干凈。該清洗工藝除進行等離子化化學反應外，還與材料表面進行了物理反應。

　3、構成新的官能團–化學效果： 假如放電氣體中引進反響性氣體，那么在活化的資料外表會產生雜亂的化學反響，引進新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高資料外表活性。　　真空等離子清洗機是使用等離子體內的各種具有高能量的物質的活化效果，將附著在物體表面的塵垢完全剝離去除。下面以氧氣等離子體去除物體外表油脂塵垢為例，闡明這些效果。

對粘接芯片、基片或基板選用恰當的清洗工藝非常重要，在傳統的溶劑清洗后再添加一道干式的等離子工藝清洗（Plasma Cleaning/Treatment），能更有用地消除有機殘留物和氧化物。等離子清洗持術可應用于各式 PCB 通孔、焊墊、基材及光學玻璃觸控屏（Touch Panel） 的清潔，在印刷、貼合、噴涂、噴墨、電鍍前之外表活化、清洗、涂層、鍍膜、改質、接技、粗糙化等。。

煮煉能增加親水性的表活

氧氣首要運用于高分子資料外表活化及有機污染物去除，煮煉能增加親水性的表活但不適用于易氧化的金屬外表。真空等離子狀態下的氧等離子呈現淡藍色，部分放電條件下相似白色。放電環境光線比較亮，肉眼觀察時可能會出現看不到真空腔體內有放電的狀況。氬 氣 氬氣是一種惰性氣體，電離后發生的離子體不會與基材發生化學反響，在等離子清洗中首要被運用于基材外表的物理清洗及外表粗化，大的特色便是在外表清洗中不會構成精細電子器件的外表氧化。