硅晶棒經(jīng)過切割、軋制、切片、倒角、拋光、激光雕刻、封裝等工序，電暈處理及加工廠成為集成電路工廠的基礎(chǔ)原材料--硅片，被稱為“晶圓”。(C)晶圓的基本原料硅用石英砂精制，硅片用硅元素提純（99.999%）。然后，這些純硅被制成硅晶棒，成為制造集成電路石英半導(dǎo)體的材料。經(jīng)過照相制版、研磨、拋光、切片等工序，多晶硅從單晶硅晶棒中熔化拉出，再切割成薄片。
半導(dǎo)體的污染與分類半導(dǎo)體制造中需要一些有機(jī)和無機(jī)物。此外，電暈處理及加工廠由于工藝始終由人在凈化室進(jìn)行，半導(dǎo)體晶圓不可避免地受到各種雜質(zhì)的污染。根據(jù)污染物的來源和性質(zhì)，大致可分為顆粒物、有機(jī)物、金屬離子和氧化物四類。1.1粒子顆粒主要是一些聚合物、光刻膠和蝕刻雜質(zhì)。這類污染物通常主要通過范德華引力吸附在晶片表面，影響設(shè)備的幾何圖形組成和光刻工藝的電參數(shù)。
目前在許多高科技領(lǐng)域處于核心地位。等離子體清洗機(jī)對(duì)工業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明的影響最為顯著，電暈處理機(jī)里面的高壓郵箱率先推動(dòng)了電子工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體光電產(chǎn)業(yè)。等離子清洗機(jī)具有成本低、人工少、工作效率高等優(yōu)點(diǎn)，是一種新型的等離子清洗機(jī)。眾所周知，太陽能光伏產(chǎn)業(yè)對(duì)清潔生產(chǎn)技術(shù)的要求很高。即使沒有電子級(jí)要求，太陽能極硅片的純度也很高。等離子清洗技術(shù)誕生后，為了清洗切片等工序中的硅片和多余雜質(zhì)，等離子清洗機(jī)成為常用的清洗方式。
根據(jù)化學(xué)催化條件下乙烷脫氫的機(jī)理，電暈處理機(jī)里面的高壓郵箱實(shí)際應(yīng)用中乙烷脫氫的關(guān)鍵途徑是乙烷的C-H鍵優(yōu)先斷裂生成C2H5自由基，C2H5自由基進(jìn)一步脫氫生成乙烯。因此，加入氣體和等離子體對(duì)乙烷脫氫的影響尤為重要。。
電暈處理及加工廠
半導(dǎo)體封裝制造行業(yè)常用的物理化學(xué)形式主要有濕法清洗和干洗兩種，尤其是干洗，發(fā)展很快。-等離子體表面治療儀性能顯著，可提高晶粒和焊盤的導(dǎo)電性。焊材潤(rùn)濕性、金屬絲點(diǎn)焊強(qiáng)度、塑殼包扎安全性。主要用于半導(dǎo)體元器件、電子光學(xué)系統(tǒng)、晶體材料等集成電路芯片。利用倒裝集成電路芯片將IC和IC芯片載體集成，不僅可以獲得超清潔的點(diǎn)焊接觸面，還可以大大提高點(diǎn)焊接觸面的化學(xué)活性（化學(xué)），有效避免虛焊，有效減少孔洞，提高點(diǎn)焊質(zhì)量。
等離子體由電子器件、離子、自由基、激發(fā)態(tài)分子和原子、基態(tài)分子結(jié)構(gòu)和光子等組成，表面上是電中性的，但實(shí)際上其內(nèi)部結(jié)構(gòu)具有很強(qiáng)的電學(xué)特性、化學(xué)特性和熱電效應(yīng)。真空系統(tǒng)中等離子體清洗機(jī)形成的等離子體屬于不穩(wěn)定等離子體，混合氣體的工作溫度遠(yuǎn)小于電子器件，電子質(zhì)量可以忽略不計(jì)；即便如此，電子器件的工作溫度也有幾萬度。
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