如果我們繼續向氣體施加能量,不銹鋼油墨附著力氣體中分子的運動速度會進一步加快,形成一種包括離子、自由電子、激發分子和高能分子碎片在內的新的物質聚集態,這就是所謂的物質第四態——“等離子體狀態”.常壓等離子體表面處理機在常壓下產生等離子體對產品表面進行處理。大氣等離子體借助等離子噴槍,將空氣或其他工藝氣體引入噴槍,同時引入高頻高壓電流對氣體施加能量。
它可以產生 H2O、CO2 和其他小而無害的物質來凈化廢氣。長期研究表明,不銹鋼油墨附著力當一種化學物質吸收能量(熱能、光子能、電離)時,其化學性質變得更加活躍,甚至會破裂。如果吸收的能量大于化學結合能,則化學鍵可能會斷裂。
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圖1為反應原理示意圖。等離子清洗的效果通常在滴水實驗中直觀地體現出來。如圖2所示,如果加強不銹鋼油墨附著力等離子清洗前的接觸角約為56°,等離子清洗后的表面接觸角約為7°。在電子封裝中,等離子清洗通常采用物理和化學相結合的方法,以去除殘留在原材料制造、運輸、預處理、芯片焊盤和引線框架表面形狀上的有機污染物增加。形成氧化物。等離子清洗設備的反應室可分為三種主要類型。電感耦合“桶”反應室、電容耦合“平行板”反應室和“平行流”反應室。
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1.1等離子清洗機運行條件:等離子清洗過程需要足夠的氣體和反應壓力,以及足夠的能量來高速沖擊被清洗物體的表面。等離子清洗反應物是揮發性的、精細結合的化合物,可以用真空泵抽出。泵的容量和速度應足夠大,以快速排出反應的副產物,反應所需的氣體應:它將立即補充。 2.1 如果通過的氣體中含有氧氣,反應過程中會產生少量臭氧。惡臭氣體實際上是臭氧。
等離子體激發頻率分為頻率為40kHz的等離子體超聲等離子體、頻率為13.56MHz的等離子體高頻等離子體和頻率為2.45GHz的等離子體微波等離子體。超聲波等離子的自偏壓在0V左右,高頻等離子的自偏壓在250V左右,微波等離子的自偏壓很低,只有幾十伏。超聲波等離子體產生的反應是物理反應,高頻等離子體產生的反應既是物理反應又是化學反應,微波等離子體產生的反應是化學反應。。
該電場的方向是將電子拉回平衡位置,以恢復plasma真空等離子清洗機等離子體的電中性。然而,由于慣性作用,電子并不會在平衡位置停止,而是沖過平衡位置并反向達到位移。這樣又會在相反方向引起電荷分離,產生反向回復 電場,電子再次被拉回,并沖過平衡位置。如此反復,電子在平衡位置附近來 回做集體振蕩。由于離子質量較大,對電場的變化響應很慢,可近似認為不動,仍作為均勻的正電荷背底。
等離子清洗機主要應用于電子行業的手機殼印刷、鍍膜、點膠等預處理,手機屏幕外觀加工;軍工航空航天電連接器表面清洗;等離子清洗機的清洗原理是在真空室中,通過射頻電源在一定壓力條件下輸送高能無序等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品的外觀,以達到清洗目的。
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