2.等離子體清洗技術(shù)產(chǎn)生的等離子體打開(kāi)了材料的分子鍵,印刷電暈機(jī)調(diào)電流導(dǎo)致交聯(lián)和低去除了分子量的污染物,在材料表面形成了干凈牢固的界面層,促進(jìn)了附著力和結(jié)合強(qiáng)度的提高。經(jīng)過(guò)等離子清洗技術(shù)處理后,材料表面形狀發(fā)生微觀變化,可使材料表面附著力高于62達(dá)因,可滿(mǎn)足各種粘接、噴涂、印刷等工藝,還可去除靜電。。

印刷電暈機(jī)調(diào)電流

等離子體表面處理技術(shù)可以增加工件的表面張力,印刷電暈機(jī)調(diào)電流使產(chǎn)品具有良好的附著力(效果)。等離子表面處理使包裝盒表面處理深度小而均勻,無(wú)紙屑飛濺,屬于環(huán)保處理;等離子噴嘴與包裝盒之間有一定距離。只需將低溫等離子噴入包裝盒內(nèi),即可連續(xù)加工各種形狀復(fù)雜的包裝盒,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定;不消耗其他燃料,只連接普通電源,大大降低(降低)包裝和印刷成本。

3)提高金屬表面的耐蝕性和耐磨性金屬表面的耐蝕性主要是通過(guò)等離子體表面處理,印刷電暈處理有什么優(yōu)點(diǎn)在金屬表面覆蓋一層薄薄的耐蝕物質(zhì),防止金屬表面與外界水分子和酸堿物質(zhì)接觸,提高金屬表面的耐蝕性。另外,在印刷電路板行業(yè)中,焊接時(shí)如果使用化學(xué)助焊劑,要用等離子去除,否則容易腐蝕產(chǎn)品。與提高金屬表面的耐腐蝕性類(lèi)似,提高金屬表面的硬度和耐磨性也是在金屬表面形成一層更堅(jiān)硬耐磨的材料層,以提高硬度和耐磨性。

通過(guò)該處理工藝,印刷電暈機(jī)調(diào)電流產(chǎn)品材料表面張力特性的改善可以更好地滿(mǎn)足工業(yè)涂布和粘接的處理要求。比如電子產(chǎn)品中,液晶顯示屏的鍍膜處理,外殼、按鈕等結(jié)構(gòu)件表面的注油絲網(wǎng)印刷,印刷電路板表面的去膠去污清洗,鏡頭上膠前的處理等。常壓等離子體機(jī)也可用于汽車(chē)行業(yè)燈罩、剎車(chē)片門(mén)前密封條的粘貼處理;機(jī)械行業(yè)金屬件微無(wú)害化清洗處理、鏡片噴漆前處理、各種工業(yè)材料之間密封前處理、印刷包裝盒機(jī)械密封邊位置粘接前處理。

印刷電暈機(jī)調(diào)電流

印刷電暈機(jī)調(diào)電流

真空等離子體處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:1.光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、涂覆基板、端子安裝等的超清洗。2.清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡等各種鏡片、載玻片。3.去除光學(xué)設(shè)備、半導(dǎo)體元件等外表面的光刻膠,去除金屬材料外表面的氧化物。4.清潔半導(dǎo)體元件、印刷電路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體、寶石。5.清洗生物芯片、微流控芯片和凝膠沉積的基底。6.高分子材料外表面的改性。

因?yàn)榈入x子體處理每秒只能穿透幾納米,污染層不能太厚。指紋也適用。1.2氧化物去除金屬氧化物與處理氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),處理氣體使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。有時(shí)采用兩步處理工藝。第一步用氧氣氧化表面5分鐘,第二步用氫氣和氬氣的混合物去除氧化層。也可以同時(shí)用幾種氣體處理。1.3焊接印刷電路板焊接前一般要用化學(xué)焊劑處理。焊接后必須用等離子法去除這些化學(xué)物質(zhì),否則會(huì)帶來(lái)腐蝕等問(wèn)題。

電子、離子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子、自由基等,電子和正離子的電荷相等,一般為電中性,不同于物質(zhì)的三種狀態(tài)(固體、液體、氣體),是物質(zhì)存在的第四種形式。其主要特點(diǎn)是:(1)帶電粒子之間不存在凈庫(kù)侖力;(2)是一種優(yōu)良的導(dǎo)電流體,利用這一特性可以產(chǎn)生磁流體發(fā)電;(3)無(wú)凈磁力的帶電粒子;(4)電離氣體對(duì)溫度有一定的影響。

當(dāng)電流變化時(shí),電流密度和陰極電位降保持不變,為正常輝光放電。隨著電流強(qiáng)度和電流密度的增加,陰極電位降開(kāi)始增大,然后進(jìn)入反常輝光放電狀態(tài)。根據(jù)等離子清洗機(jī)放電點(diǎn)的空間分布可分為兩個(gè)主要區(qū)域:一是放電的陰極區(qū),包括阿斯頓暗區(qū)、陰極輝光區(qū)、負(fù)輝光區(qū)和法拉第暗區(qū);二是陽(yáng)極區(qū),包括正柱區(qū)、陽(yáng)極暗區(qū)和陽(yáng)極輝光區(qū)。陰極部分不具有等離子體特性,從正柱區(qū)到陽(yáng)極其他放電區(qū)都處于等離子體狀態(tài)。

印刷電暈處理有什么優(yōu)點(diǎn)

印刷電暈處理有什么優(yōu)點(diǎn)

等離子體氣體在高頻電作用下產(chǎn)生高速電子直接沖擊門(mén)板表面的雜質(zhì)分子,印刷電暈機(jī)調(diào)電流使雜質(zhì)分子分解成小分子;此外,高速電子與雜質(zhì)分子碰撞,并在碰撞過(guò)程中與等離子體氣體發(fā)生反應(yīng)。在整個(gè)碰撞反應(yīng)過(guò)程中,氣體分子被電流激發(fā)電離后,產(chǎn)生大量活性粒子。這些活性顆粒因?yàn)榕鲎才c門(mén)板表面的雜質(zhì)分子發(fā)生反應(yīng),雜質(zhì)分解成揮發(fā)性物質(zhì)被吸走。

與自動(dòng)清洗臺(tái)相比,印刷電暈機(jī)調(diào)電流其清洗效率和生產(chǎn)率較低,但具有較高的工藝環(huán)境控制能力和顆粒去除能力。自動(dòng)工作站又稱(chēng)槽式自動(dòng)清洗設(shè)備,是指在化學(xué)浴中同時(shí)清洗多片晶圓的設(shè)備。其優(yōu)點(diǎn)是清洗能力高,適合大規(guī)模生產(chǎn),但達(dá)不到單個(gè)晶圓清洗設(shè)備的清洗精度,目前(頂尖)技術(shù)下難以滿(mǎn)足全流程的參數(shù)要求。同時(shí),鑒于同時(shí)清洗多個(gè)晶體,自動(dòng)清洗臺(tái)面無(wú)法防止交叉污染。