氣壓的范圍跨度從零點幾帕到幾十萬帕，涂膜附著力測定標準相應粒子密度的變化范圍達108數量級。通常氣體放電中的帶電粒子是電子和各種離子，典型的氣體放電的電子密度是1016~1020/m3。氣體放電中的正離子和負離子與原來的中性粒子不同，例如在空氣放電等離子體中所產生的大量離子，其中包括N+、N、O+、O2、NO-、NO2、O2和O3等.。每一種離子都將影響氣體放電的電特性，不過電子的作用通常占主導地位。
大氣等離子體清洗機建議選用帶流量控制器的特殊氣源，涂膜附著力測定標準以提供穩定的工作氣體。本裝置優點是攜帶方便、干燥、潔凈氣源、恒壓、恒流量。真空等離子清洗機流量控制器的選擇工藝氣體流量的穩定性會影響工業真空等離子清洗機的加工效果。大多數工藝對氣體流量的控制是非常嚴格的，所以工業真空等離子清洗機是選擇質量流量控制器來實現對工藝氣體流量的控制。
表3-2 等離子體發生器能量密度對H2氣氛下C2H6反應的影響Ed/(kJ/mol) XC2H6/% YCH4/% YC2H4/% YC2H2/%320 37.6 2.6 3.7 10.6640 45.2 6.1 8.7 21.2860 59.2 7.0 9.2 28.7 0 61.6 7.9 9.6 34.6注：反應條件為C2H6/H2=2。
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影響涂膜附著力的因素
等離子體可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種。冷等離子體的電離率低，電子溫度遠高于離子溫度，離子溫度甚至可??以與室溫媲美。因此，冷等離子體是一種非熱平衡等離子體，冷等離子體具有比普通化學反應更多樣化、更活躍、更容易接觸的許多活性粒子。它用于修改材料的表面，因為它會導致材料上的表面反射。市面上的低溫等離子表面處理設備種類繁多（點擊查看詳情），讓人眼花繚亂。
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等離子發生器表面處理前后聚四氟乙烯材料成分的差異：等離子體由電子、離子、自由基和其他中性粒子組成。在這種情況下，電子、離子和自由基都是易與其他固體材料表面發生反應的反應性粒子。等離子體中含有大量活性粒子，在一定范圍內頻繁與材料表面高速碰撞。這會引起兩個反應。首先，具有活躍物理反應的顆粒與表面碰撞并被洗滌，最后被分離。來自表面的污染物。
超聲等離子體的自偏壓約為0V，低溫寬等離子體清洗機射頻等離子體的自偏壓約為250V，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子體的機理不同。超聲等離子體的反應是物理反應，射頻等離子體的反應是物理反應和化學反應，微波等離子體的反應是化學反應。超聲等離子體清洗對被清洗表面影響較大，因此在實際半導體生產應用中多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。
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