等離子刻蝕機加工消除了彩盒開口的封裝問題。彩盒開口處理裝置采用直噴等離子處理器。等離子蝕刻器用于產生含有大量氧原子的氧基活性物質。通過在材料表面噴射含氧等離子體，二氧化鈦 表面羥基活化可以將附著在材料表面的有機污染物的碳分子分離成二氧化碳并去除。同時，可以有效改善材料的表面接觸。提高強度和可靠性。銅版紙、上光紙、銅版紙、鍍鋁紙、浸漬紙板、UV涂層、OPP、聚丙烯、PET膜等包裝彩盒，被眾多客戶使用。

典型的等離子物理清洗工藝是氬等離子清洗。氬氣本身是惰性氣體，二氧化鈦 表面羥基活化等離子氬氣不與表面反應，但會通過離子沖擊清潔表面。典型的等離子化學清洗工藝是氧等離子清洗。等離子體產生的氧自由基非?；钴S，很容易與碳氫化合物發生反應，生成二氧化碳、一氧化碳和水等揮發性化合物，從而去除表面污染物。 2、勵磁頻率的分類等離子體態的密度與激發頻率的關系如下。

等離子體和十種催化劑對甲烷和二氧化碳的轉化有不同的影響:過渡金屬氧化物是工業催化劑中最重要的催化劑之一。過渡金屬氧化物的多相催化反應通常是通過催化劑的酸堿反應或氧化還原反應來進行的。甲烷(OCM)在普通催化和等離子體催化下的氧化偶聯結果表明:大多數過渡金屬氧化物催化劑具有一定的催化活性。結合以往等離子體催化甲烷脫氫的研究經驗，二氧化鈦表面羥基活化選擇Mn、Fe、Co、Ni和W等過渡金屬，制備了負載型金屬氧化物催化劑。

自由基的作用主要表現在化學反應過程中的能量傳遞的“活化”作用，二氧化鈦表面羥基活化處于激發狀態的自由基具有較高的能量，因此易于與物體表面分子結合時會形成新的自由基，新形成的自由基同樣處于不穩定的高能量狀態，很可能發生分解反應，在變成較小分子的同時生成新的自由基，這種反應過程還可能繼續進行下去，最后分解成水，二氧化碳之類的簡單分子，在另一些情況下，自由基與物體表面分子結合的同時，回釋放出大量的結合能，這種能量又成為引發新的表面反應的推動力，從而引發物體表面上的物質發生化學反應而被去除。

二氧化鈦表面羥基活化

低溫氧等離子體處理不僅可以提高材料的表面親水性，而且可以提高材料的表面電導率和附著力。因此，選擇合適的等離子體處理方法可以有效地改善材料的表面性能，方便人們的生產生活。。氧等離子體表面治療儀處理二氧化硅薄膜材料的過程是怎樣的？氧等離子體表面處理儀的等離子體工藝用于材料的輔助處理，其中氣相與固相表面的化學反應起著關鍵作用。

此法流程簡單，對原料適應性強，但電耗偏高，限制了它的大規模推廣。60年代，美國離子弧公司以鋯英砂為原料在直流電弧等離子體中一步裂解制備氧化鋯。70年代末，中國以硼砂和尿素為原料，在直流電弧等離子體中制備高純六方氮化硼粉，該法具有產品純度高、成本低、工藝流程簡單等優點。此外，還可利用等離子技術生產二氧化鈦。。

等離子清洗機表層處理技術工藝不但能夠清潔機殼在注塑成型時遺留下的油漬，更能最高程度上的活化塑料制品機殼表層，提升其進行印刷、涂敷等黏結實際效果，促使機殼上鍍層與基材相互間十分牢固地聯接，涂敷實際效果十分均衡，外表更為鮮亮，同時耐磨性能很大程度上提升，長期在使用也不會造成磨漆現像。

等離子清洗機（PLASMA CLEANER）又稱等離子刻蝕機、等離子脫膠機、等離子活化劑、等離子清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子處理設備廣泛用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶片分層、等離子鍍膜、等離子灰化、等離子活化、等離子表面處理。

二氧化鈦表面羥基活化

氬等離子清洗機的表面張力大大提高。活性氣體產生的等離子體也可以增加表面粗糙度，二氧化鈦 表面羥基活化但氬氣電離產生的粒子比較重，而且氬離子在電場作用下的動能要高得多。活性氣體的作用越來越明顯，被廣泛應用于無機基材的表面粗化處理。玻璃基板表面處理、金屬基板表面處理等③ 活性氣體支撐等離子清潔器活化和清潔過程通常使用工藝氣體的組合來獲得更好的結果。由于氬氣的分子比較大，電離后產生的顆粒在表面清洗和活化時一般會與活性氣體混合。

五、等離子涂鍍聚合在涂鍍中兩種氣體同時進入反應艙，二氧化鈦 表面羥基活化氣體在等離子環境下匯聚合。這種應用比活化和清潔的要求要嚴格一些。典型的應用是保護層的形成，應用于燃料容器、防刮表面、類似PTFE材質的涂鍍、防水涂鍍等。涂鍍層非常薄，通常為幾個微米，此時表面的親和力非常好。