在有機清潔應用中，氧等離子體刻蝕氮化硼主要副產物一般包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化學反應的等離子體清洗，清洗速度快，選擇性好，對去除有機污染物最有效。缺點是表面會發生氧化。典型的化學等離子體清洗是使用氧等離子體。&EMSP；物理過程：在物理過程中，原子、離子以高能量、高速轟擊待清洗物體表面，使分子分解，并用真空泵泵出。

與氬等離子體處理相比，惠州氧等離子體清洗機氧等離子體預處理使聚酯基體表面變化更明顯，液滴在鍍銅滌綸織物表面的接觸角更小，液滴親水性明顯提高。。低溫等離子體技術有哪些應用領域？如今，隨著科技的發展，科技已經不僅僅是我們所熟悉的。有許多物質廣泛應用于科學、經濟、醫學等領域，低溫等離子體就是其中之一。等離子體，如低溫，是物質狀態的名稱。物質有三種：固體、液體和氣體。除了固體、液體和氣體外，其他物質現在都被描述為低溫等離子體。

但由于其能量遠低于輻射，惠州氧等離子體清洗機等離子體處理只發生在襯底表面，不會損傷襯底。刻蝕-沉積是等離子體作用于被處理材料表面的一對相反而同時發生的化學反應。經氧等離子體處理后的導尿管表面包裹膜的化學結構與橡膠材料相似。這在實際應用中是有益的，因為它可以避免表面處理帶來的有害副作用。未經處理的導管表面接觸角為84°；氧等離子體處理后67℃；處理后接觸角減小17℃；這說明導尿管的親水性得到了很好的改善。

在機械行業，惠州氧等離子體清洗機硬質耐磨涂層、耐腐蝕涂層、熱障涂層和固體潤滑涂層的生產方面有很多研究和應用，其中TiNi涂層刀具的推廣引起了切削領域的一場革命，金剛石膜和立方氮化硼膜的研究也很熱，并已推廣到實用化。在不同PVD和CVD工藝的基礎上，開發和重組了許多新的工藝和設備，如IBAD、PCVD和空心陰極多弧復合和離子鍍裝置，離子注入和油濺射或蒸發復合裝置，等離子體浸沒式離子注入裝置等。

惠州氧等離子體清洗機

在機械行業，硬質耐磨涂層、耐腐蝕涂層、熱障涂層和固體潤滑涂層的生產方面有很多研究和應用，其中TiNi涂層刀具的推廣引起了切削領域的一場革命，金剛石膜和立方氮化硼膜的研究也很熱，并已推廣到實用化。在不同PVD、CVD工藝的基礎上，開發和復合了許多新工藝、新設備，如IBAD、PCVD與空心陰極多弧復合離子鍍裝置，離子注入與油濺射或蒸發復合裝置，等離子體浸沒式離子注入裝置等。

經過十年的努力，課題組深入研究了彈塑性有限元分析與優化設計、超高壓通電燒結、浸滲-焊接法制備模塊、活性金屬真空釬焊、活性金屬鑄造、自蔓延燃燒預熱爆炸固結、分級熱壓等新技術，成功制備了鎢與銅、碳化硅與銅、碳化硼與銅、鉬與銅、碳化硅與碳、碳化硼與碳功能梯度材料等多個體系的抗等離子侵蝕功能梯度材料，其中碳化硅與銅、碳化硼與銅、碳化硅與碳、碳化硼與碳功能梯度材料在國際上尚未見報道。

隨著等離子體技術的發展，等離子體清洗機技術在現場的應用越來越廣泛，如在國防上的應用；1.航空航天電連接器電連接器中絕緣子與線封體的粘接效果（果）一直影響著國內電連接器的發展，特別是在航空航天領域，對電連接器的要求更加苛刻，未經表面處理的絕緣子與線封體的粘接效果（果）很差，即使使用特殊配方膠，其粘接效果（果）也達不到要求；此外，如果絕緣子與導線密封體結合不緊密，可能會發生漏電，使電連接器的耐壓值無法提升。

等離子體純化是在高真空條件下進行的，因此等離子體中的各種活性離子具有很強的自由度，它們具有很強的滲透性，可以處理雜亂的結構，包括細管和盲孔。大氣等離子體清洗機產生的等離子體狀態可以通過輸入能量產生另一種狀態。當一種氣態物質被進一步加熱到更高的溫度，或者被高能量照射時，這些氣態物質就會轉變為第四種狀態，即等離子體。這樣，一些氣體原子解離為電子和離子，而其他亞穩態原子吸收能量后變得化學活躍。

惠州氧等離子體清洗機

等離子清洗機由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導入系統、工件傳動系統和控制系統組成。整個清洗過程大致如下；1.將清洗后的工件送入真空式固定，氧等離子體刻蝕氮化硼啟動運行設備，啟動排氣，使真空室內的真空度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間需要幾分鐘左右。2.將等離子體清洗氣體引入真空室，并保持室內壓力穩定。根據清洗材料的不同，氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體分貝均可使用。