工件表面上的污染物,如油脂、通量,膠卷,脫模劑,沖壓油,等等,很快就會被氧化成二氧化碳和水,并將由真空泵抽離,從而達到清洗的目的和改善表面滲透和附著力。低溫等離子體處理只涉及材料的表面，二氧化硅等離子體刻蝕設備不影響材料的性能。
等離子體原理與超聲波清洗原理相同，二氧化硅plasma去膠機當模塊內接近真空時，射頻通電，打開氣體電離，等離子體，并伴隨著輝光放電，等離子體在電場的作用下加速，從而在電場的作用下高速運動，表面發生物理碰撞，等離子體的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣帶出客艙。
等離子體產生的氧自由基具有很強的活性，二氧化硅等離子體刻蝕設備容易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發性物質，從而清除表面污染物。
最終Z將有毒物質轉化為無毒物質，二氧化硅等離子體刻蝕設備降解原污水中的污染物。臭氧氧化:在污水處理過程中，臭氧作為一種強氧化劑，使有害物質結合，形成一些中間產物，降低了原污水的毒性和有害物質的含量，經過多次反射，最終將污染物的有機物質分解成二氧化碳和水。對于無機物，可以形成某些氧化物來去除;紫外線分解:采用低溫等離子體技術，紫外線輻射可單獨或與臭氧結合分解有害物質。
二氧化硅等離子體刻蝕設備
因此，為了保證產品的性能和質量，建議等離子處理后的產品存放時間越短越好。三、等離子體處理設備在處理過程中不會產生有害物質嗎?事實上,這個問題是完全不必要的擔心,等離子體表面處理干燥處理,不會使用的解決方案,不會產生廢液,,等離子體處理系統有一個完整的氣路系統,氣體是無害的,如二氧化碳、水、臭氧、等等,并將與排氣系統排出。。
等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣(Oxygen, O2)、氬氣(氬氣，Ar)、氮氣(氮氣，N2)、壓縮空氣(Compressed Air, CDA)、二氧化碳(Carbon,CO2)、氫氣(H2)、四氟化碳(CF4)等。由于采用物理+化學處理方式，電離的離子體可以對表面進行物理轟擊，形成粗糙的表面。
等離子體表面處理技術以其環保、低成本的優勢，越來越受到發動機面板廠家的重視!在等離子設備等離子處理前，PP表面能低，不易粘水，像水珠一樣。等離子體處理后PP表面增強，水滴易于擴散和充分展開。
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