⑴大氣等離子清洗機：
一般采用空氣作為生發氣體。特點是氣體的需求量非常高，工業應用上常用中頻作為激發能源，頻率在39KHZ左右。
等離子工作形態以直噴跟旋轉兩種比較常見。設備工作過程中會產生超標的臭氧與氮氧化物等對人有害的氣體，所
以必須要配套廢氣排放系統一同工作。因為特性，大氣等離子主要適用于對處理效果要求高，并且后續運行成本低
的行業，例如手機蓋板，手機保護膜等行業。
⑵真空等離子清洗機：
主要分為兩種，即腔式和大氣壓式，此兩種等離子技術均為直接式等離子。腔式等離子的特點是需要一個封閉的腔體，電極內置于真空腔體中，工作時首先用真空泵將腔體內空氣吸出形成真空環境，然后等離子在整個腔體中形成并直接對在內的材料進行表面處理。此種腔式等離子的處理效果要優于大氣等離子。后續運行成本較高，主要是因為其真空泵連續工作的功耗較大。另外設備工作時在真空環節需要的時間較多，對采用自動化生產線及要求處理效率的工業領域來說，局限性比較明顯，大氣壓光式等離子技術。RF射頻作為激發能源，工作頻率是13.57MHZ。采用氬氣（Ar）
作為發生氣體，氧氣或者氮氣作為反應氣體。
