GHZ）是化學反應(yīng)，二氧化硅等離子清潔設(shè)備高頻等離子體（激發(fā)頻率，13.56MHZ）包括物理化學雙反應(yīng)類型。 (2)工作氣體的種類也影響等離子清洗的種類。例如，AR2、N2等形成的等離子體常用來進行物理清洗，通過沖擊來清洗產(chǎn)品表面。形成等離子體。常用的反應(yīng)氣體如 O2 和 H2。化學清洗、活性自由基和污染與物質(zhì)（主要是碳氫化合物）發(fā)生化學反應(yīng)，形成一氧化碳、二氧化碳和水等小分子，這些小分子會從產(chǎn)品表面去除。

高頻等離子體（激發(fā)頻率，二氧化硅等離子清潔設(shè)備13.56MHZ）包括物理化學雙反應(yīng)類型。 (2)工作氣體的種類也影響等離子清洗的種類。例如，AR2、N2等形成的等離子體常用來進行物理清洗，通過沖擊來清洗產(chǎn)品表面。形成等離子體。在化學清洗中，活性自由基與污染物（主要是碳氫化合物）發(fā)生化學反應(yīng)，形成一氧化碳、二氧化碳和水等小分子，從表面去除。產(chǎn)品。 (3)等離子清洗系統(tǒng)的清洗方式影響清洗(效果)效果。

CH4和二氧化碳作為等離子清洗劑的原料，二氧化硅等離子清洗設(shè)備生成C2烴復合反應(yīng) CH4和二氧化碳作為等離子清洗劑的原料，生成C2烴類。二氧化碳加氫的第一個完全還原產(chǎn)物是 CH4，部分還原產(chǎn)物是 C2 烴。其次，CH4的完全氧化產(chǎn)物是二氧化碳，部分氧化產(chǎn)物是C2烴，中間產(chǎn)物是CHX。這兩個反應(yīng)是相互可逆的。例如，CH4和二氧化碳同時活化，即二氧化碳的存在，有利于CH4的部分氧化，而CH4的存在則抑制了二氧化碳的顯著還原。

, 共同作用促進了 C2 烴類的形成。對作為氧化劑的二氧化碳與 CH4 偶聯(lián)反應(yīng)的影響的調(diào)查取決于：首先，二氧化硅等離子清潔設(shè)備我們提出了一種解決 CH4 活化困難的方法，并提供了一種最大限度地利用氣體的有效方法。通過使用二氧化碳，您可以減少溫室氣體排放。因此，本次討論具有重要的學術(shù)價值，范圍廣泛。應(yīng)用前景廣泛。已經(jīng)報道了由二氧化碳氧化CH4生產(chǎn)C2烴的路線。

二氧化硅等離子清潔設(shè)備

由于等離子洗滌器的作用，二氧化碳將CH4氧化成C2烴類可分為間接法和直接法。 C2烴合成系統(tǒng)。 ZHOU等人以介質(zhì)阻擋放電的形式實現(xiàn)了二氧化碳復合CH4反應(yīng)。當注入能量為87KW.H/(N·M3)時，甲烷轉(zhuǎn)化率為64%，碳轉(zhuǎn)化率為64%。二氧化碳為54%。 GALLON 等人和 PINHAO 等人分別研究了在 DBD 放電等離子清洗機作用下 CH4 和二氧化碳的復合反應(yīng)。

討論的結(jié)果是，重組反應(yīng)的主要產(chǎn)物是合成氣，它是少量的碳氫化合物（主要是 C2H6）。但在DBD放電等離子等離子體的作用下，CH4的反應(yīng)產(chǎn)物轉(zhuǎn)化和二氧化碳復合反應(yīng)相對較低，反應(yīng)能耗較高。 LI等人分別研究了在直流和交流電暈放電作用下CH4和二氧化碳的復合反應(yīng)。

與金屬材料相比，高分子材料具有低密度、低比強度和比彈性、優(yōu)良的耐腐蝕性、成型工藝簡單、成本低、化學穩(wěn)定性好、熱穩(wěn)定性好、極好的介電性能等諸多優(yōu)點，極低摩擦系數(shù)、包裝、印刷、農(nóng)業(yè)、輕工、電子設(shè)備、儀器儀表、航天航空、醫(yī)療器械、復合材料由于其優(yōu)異的潤滑性和優(yōu)異的耐候性。廣泛應(yīng)用于材料等行業(yè)。

羊毛處理后的平均纖維細度比處理前略高，纖維的短毛增加，手感比處理前略粗，水的回收少，高支紗斷頭。會大大減少。毛織物經(jīng)等離子法處理，可在織物表面形成一層薄膜。具有均勻性好、針孔少、耐溶劑性好、熱穩(wěn)定性好、對服裝和襯里附著力強等優(yōu)點。目前，國內(nèi)外幾乎沒有利用低溫等離子設(shè)備對蠶絲進行改性處理的研究。處理過的橡膠纖維由低溫等離子處理過的橡膠制成，可顯著提高濕度和染色性。

二氧化硅等離子清潔設(shè)備

5）確保在關(guān)閉設(shè)備時，二氧化硅等離子清洗設(shè)備將其關(guān)閉，關(guān)閉，關(guān)閉所有控制開關(guān)。關(guān)閉電源并妥善存放。 2、使用低溫等離子凈化/消毒設(shè)備時的注意事項 2）設(shè)備的工作溫度必須控制在-10℃到40℃，但不要冷凍。儲存溫度應(yīng)為-10至55°。 C；3）等離子凈化消毒設(shè)備運行時環(huán)境濕度應(yīng)小于85%，但不得結(jié)露，儲存濕度應(yīng)小于93%，不得結(jié)露。請勿在浴室內(nèi)使用。或者設(shè)備潮濕的地方； 4) 保持設(shè)備進風口的出風口和出風口沒有被堵塞。

使用前，二氧化硅等離子清洗設(shè)備請檢查周圍無異物，出風口是否堵塞。冷等離子凈化消毒設(shè)備由這些部件組成。描述名稱及其功能。 1. AC220V 電??源輸入插座：供電 2. 電源開關(guān)：控制電源連接的開/關(guān) 3. 低溫等離子電源調(diào)節(jié)控制鍵：根據(jù)實際環(huán)境將氣味調(diào)大 還需要功率值 4. 功率顯示屏幕：實時顯示當前功率值。五。散熱風扇：及時散發(fā)設(shè)備運行產(chǎn)生的熱量。