偏濾器利用磁場來限制等離子體的位置。附加線圈工作中的電流磁場在這種情況下，雙面電暈處理發泡膜磁界面外的磁力線不閉合，等離子體被引導到偏壓室，在那里帶電粒子被中和并被泵送走。分流器可以用來減少等離子體與壁面的相互作用，避免固體孔徑。冷氣毯。也就是說，在高溫等離子體與壁面之間形成一層致密的低溫等離子體作為屏蔽，以減少兩者之間的相互作用。。
在低壓下，那里雙面電暈處理發泡膜放電過程發生在所謂的輝光區，那里等離子體幾乎占據了整個放電室，這與常壓下燈絲放電模式下觀察到的現象形成鮮明對比。在低壓輝光放電中，放電室大部分充滿準中性等離子體，等離子體與放電室壁之間存在一層薄薄的空間正電荷層。器件壁表面的這些空間正電荷層，或者&ldquo；鞘層&rdquo；其空間尺度一般小于1厘米。鞘層是由于電子和離子之間遷移率的差異。等離子體中的電位分布傾向于限制電子并將正離子推入鞘層。
這反過來又導致相反方向的電荷分離，那里雙面電暈處理發泡膜產生反向返回電場，在那里電子再次被拉回并沖過平衡位置。重復地，電子在平衡位置附近集體來回振蕩。由于離子質量大，對電場的變化響應較慢，因此可視為靜止不動，仍充當均勻正電荷返回。當這種中性在等離子體中被打破時的空間電荷振蕩。
但這些改良纖維普遍存在表面潤滑性和化學活性低的缺陷，那里雙面電暈處理發泡膜難以在纖維與樹脂基體之間建立物理錨固和化學鍵合效應，導致復合材料界面粘接性差，進而影響復合材料的一般功能。此外，商品纖維材料表面會有一層有機涂層、微塵等污染物，這些污染物主要來自纖維制備、灌漿、運輸、儲存等過程，會影響復合材料的界面結合功能。
雙面電暈處理發泡膜
電壓降與電極比表面積的關系為VA/Vb=(Sb/Sa)&α；和指數&α；在假設的理想狀態下，范圍在1.0到2.5之間，因此這個值可以作為參考，但仍缺乏作為依據。在圓形電容耦合高頻放電過程中，指數&α；也可視為在上述范圍內。下圖為等離子體表面處理設備圓柱形射頻放電極板電壓示意圖。工業應用的圓柱耦合射頻等離子體表面處理設備常采用圓柱石英玻璃作為其反應室。
此外，由于低溫在線等離子體表面清洗設備形成的等離子體是電中性的，因此在處理過程中不會對產品表面造成損傷。這種等離子體處理工藝采用/等離子體清洗機，也可以在線實現，不需要溶劑，更加環保。。氣體放電等離子體及其在低溫常壓等離子體清洗機中的應用；低溫常壓等離子體清洗機的等離子體特性與放電特性密切相關，放電特性與激勵電源、放電方式和產生條件有關，低溫常壓等離子體清洗機產生等離子體的氣體放電形式有多種。
自由基在化學反應過程中的作用主要是勢能轉移的（激發）活性，處于（激發）狀態的自由基具有很高的勢能，因此，與材料外表面的分子結合容易形成新的自由基，新形成的自由基也是不穩定的高能形式，分解反應的可能性很大，它們變成小分子的同時又形成新的自由基，這一反應過程可以繼續下去，分解成水、二氧化碳等簡單分子。
在半導體封裝工業中，包括集成電路、分立器件、傳感器和光電封裝等，通常使用銅引線框架。為了提高粘接和封裝的可靠性，銅框架通常通過等離子清洗機進行幾分鐘的處理，去除表面的有機物和污染物，增加其表面的可焊性和附著力。。等離子體碳納米管的改性及其在污染物監測和治理中的應用；等離子體改性是一種處理時間短、無化學污染、不破壞材料整體體積結構、只改變材料表面性質的新工藝。
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