熱等離子體裝置是利用帶電體尖端(如刀尖或針尖及狹縫電極)引起電場不均勻，噴漆工藝的附著力稱為電暈放電，使用電壓和頻率、電極間距、加工溫度和時間都對電暈處理效果有影響。隨著電源電壓和頻率的增加，處理強度高，處理效果好。但是，如果工頻過高或電極間隙過寬，則電極之間會發生過多的離子碰撞，造成不必要的能量損失。但如果電極間距過小，則會產生感應損失和能量損失。處理溫度越高，表面特征變化越快，處理時間延長，極性基團增加。

(D)接觸時間：待清洗材料在等離子體中的接觸時間對材料與等離子體的表面清洗效果影響很大。工作效率。接觸時間越長，噴漆工藝的附著力清洗效果越好，但工作效率越低。此外，長時間清潔會損壞材料表面。 (E)滲透率：與常壓等離子清洗工藝相比，清洗大型物體時會出現連續滲透的問題。因此，被清洗物與電極的相對運動越慢，清洗效果就越高，但如果太慢，工作效率就會變差，表面也會受到損傷。

電暈等離子體處理器是一種通過蝕刻兩個電極并將它們放置在密閉容器中以形成電磁場來產生等離子體的設備。借助真空泵達到一定的真空度，噴漆工藝對附著力的影響蒸汽變得越來越稀薄，分子間距和分子或離子的自由運動距離，也在電磁場的影響下越來越長，碰撞。它形成等離子體，同時產生輝光。等離子體在電磁場中運動，撞擊待處理物體的表面，達到表面處理、清潔、腐蝕的（效果）。

在等離子體表面處理儀產生等離子體和材質接觸面的撞擊會將其能量轉移到材質分子和原子接觸面，噴漆工藝的附著力從而產生一系列的物理和化學反應。它還可以通過向材質接觸面注入顆?；驓怏w來改變材質的接觸面性質，從而引起碰撞、散射、激發、重排、異構化、結晶。1）等離子體表面處理儀與材質接觸面的蝕刻很多的的離子、活躍的分子和自由基在物理作用下在等離子體接觸面起作用，去除原始污染物和雜質。

噴漆工藝的附著力

IV.等離子體設備氧化物暴露在氧氣和水中的半導體晶片表面會形成自然氧化層。這種氧化膜不僅阻礙了半導體制造的許多步驟，而且含有一些金屬雜質，在一定條件下會轉移到晶圓上形成電缺陷。這種氧化膜的去除常通過在稀氫氟酸中浸泡來完成。。普通等離子設備適用于精密電子、半導體、pcb、高分子材料等高端產品的零部件，這些（高）級材料如果清洗不當，容易導致產品損壞。也常說等離子設備清洗越來越臟。

隨著電場的持續增長，陽離子被吸入電極，從而產生電暈電流脈沖，將陰離子擴散到間隙空間中。然后重復下一個電離和帶電粒子運動的過程。當循環產生許多電暈電流脈沖時，電暈放電在大氣壓下工作，但需要足夠高的電壓來增加電暈部位的電場。一般在高電壓、強電場的條件下，很難獲得穩定的電暈放電，容易發生局部電弧放電（電?。?。為了提高穩定性，反應器可以具有不對稱的電極形狀（見下圖）。

在線等離子清洗機等離子體清洗機的原理是先產生真空，真空中分子之間的距離較大，再利用交流電場使工藝氣體變成等離子體，與有機污染物、微粒污染物反應或碰撞形成揮發性物質，通過工作氣流和真空泵將揮發性物質清除出去，從而使工件達到了表面清洗活化的目的。等離子體清洗的特點是清洗后無廢液，對環境無污染。

例如，氧氣、氮氣、甲烷和水蒸氣等氣體分子在高頻電場中處于低壓狀態，在發生輝光放電時可以分解加速的原子和分子，并產生電子并離解。帶正電荷和負電荷的原子和分子，使這樣產生的電子在受到電場加速時獲??得高能量，與周圍的分子和原子發生碰撞，分子和原子被激發發射電子，從而成為激發態或離子態。 , 物質存在的狀態是等離子體狀態。。

噴漆工藝對附著力的影響