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等離子體放電過程中發生臭氧的基本原理是含氧氣體在放電反響器內所形成的低溫等離子體氛圍中，光纖涂料附著力檢測報告一定能量的自由電子將氧分子分化成氧原子，之后通過三體碰撞反響形成臭氧分子，一起也發生著臭氧的分化反響。臭氧，化學分子式為03，又稱三原子氧、超氧，因其相似魚腥味的臭味而得名，在常溫下可以自行還原為氧氣。比重比氧大，易溶于水，易分化。
等離子體處理設備主要包括預真空室、刻蝕室、送風系統和真空系統四部分。等離子體處理設備的工作原理是化學過程和物理過程共同作用的結果。真空壓力下,射頻(RF)力量的基本原則產生的射頻輸出環耦合線圈,以一定比例混合蝕刻氣體輝光放電的耦合,高密度等離子體、電極的射頻(RF),進行等離子體轟擊襯底表面,基片圖形區半導體材料的化學鍵被中斷，光纖涂料附著力強嗎它與被蝕刻的氣體形成揮發性物質，以氣體的形式離開基片，并被抽離真空管。。
在 PLC 出現之前，光纖涂料附著力強嗎所有等離子清洗機的控制系統主要基于繼電器控制。繼電器控制通常有兩種控制方式：按鈕控制和觸點控制。按鈕控制是指使用手動控制器來控制電氣設備的電路。而觸點控制則使用繼電器進行邏輯控制，其控制對象既包括電氣設備電路，也包括繼電器本身的線圈。繼電器控制是利用電氣元件中的機械觸點串聯和并聯形成邏輯控制電路。實驗真空等離子清洗機由按鈕操作控制。
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N2+O2+CF4→N•+O•+•OF+•OF3+•CO+•COF+F•+………………………式（1）等離子體與高分子材料（C、H、O、N）反應方程式見式（2）。
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