等離子體脈沖技術于20世紀80年代末被報道，電暈等離子處理設備并用于等離子體物理的基礎研究。研究發現，等離子體脈沖刻蝕技術可以解決傳統連續等離子體刻蝕中遇到的許多問題，特別是對于含有負電荷等離子體的刻蝕工藝。與傳統的連續等離子刻蝕相比，等離子清洗機等離子脈沖技術可以獲得高選擇性、高各向異性和輕電荷積累損傷的刻蝕工藝，并且可以提高刻蝕速率，減少聚合物的產生，增加刻蝕均勻性，減少紫外輻射損傷。

符合要求的蝕刻均勻性是芯片成品率的保證。就等離子清洗機蝕刻的各向異性而言，電暈等離子處理設備它直接定義了蝕刻微結構的側壁輪廓。潛在等離子體損傷(PID)對器件的工作性能有很大影響。對于傳統的連續等離子體刻蝕，當器件尺寸減小到14nm節點以下時，實現上述刻蝕目標變得越來越困難。為了應對這些挑戰，等離子體清洗機等離子體脈沖刻蝕技術得到了發展，并逐步應用于工業。

低溫等離子體處理可引起材料表面的刻蝕、交聯和基團引入，脈沖電暈等離子體處理技術進而顯著改變材料的表面特性，如親水性、疏水性、沿表面閃絡電壓、表面電荷耗散、空間電荷積累等。變頻電機匝間絕緣間局部放電也是發生在氣隙內材料表面的一種氣體放電，其工作電壓為方波脈沖電壓。當脈沖極性反轉時，由于材料表面電荷的色散特性，氣隙中的放電強度會加劇。因此，可以使用低溫等離子體表面處理只是改變材料的表面而不影響其內部基底結構的優越特性。

低溫等離子表面處理設備代替底漆，電暈等離子處理設備從而降低生產成本等離子體表面處理技術可以快速徹底地消除物體表面的污染物，可以增加這些材料的粘度，親水性、焊接強度、疏水性和電離過程都可以容易控制和安全重復。是提高產品可靠性的理想表面處理技術。通過等離子體設備的表面活化、蝕刻和表面沉積，等離子體技術可以提高大多數物質的性能：清潔度、親水性、拒水性、附著力、標記性、潤滑性和耐磨性。

電暈等離子處理設備

由于等離子體中原子的電離、復合、刺激和遷移，會產生紫外線，光子能量也在2～4eV范圍內。顯然，在等離子體設備中，粒子和光子所給予的能量是很高的。。很多接觸過等離子設備的人都知道，我們的等離子設備只是行業的總稱，它可以分為常壓等離子設備、真空等離子設備、卷對卷等離子設備等多種類型。

等離子體發生器考慮到材料表面層的硬度、蝕刻和粗糙度不同，結合效果不同，所以結合材料的剪切強度值不同。。等離子體發生器設備用半導體材料/LED解決方案；等離子體發生器設備的半導體材料/LED解決方案，基于電子元器件的等離子體在半導體材料行業的應用，以及基于電子元器件的各類元器件和布線都非常細致，因此過程中容易產生粉塵、有機物等環境污染，容易造成晶圓損壞和短路。

隨著原材料和技術水平的發展，地埋式通孔結構的促進作用會越來越小，越來越精細化；通孔電鍍時采用傳統的化學去除膠渣方法會越來越困難，而真空等離子設備的清洗方法可以很好的克服濕膠除渣的缺點，對于通孔或微孔可以促進更好的清洗輔助，保證通孔鍍孔時有更好的驅動效果。。

4.其他如等離子刻蝕、活化和涂層鑒于等離子清洗機加工的基本功能和主要用途有這么多的途徑，所以電子光學、光電材料、光通信、電子器件、電子光學、半導體材料、激光器、加工芯片、珠寶首飾、顯示信息、航空工程、生物科學、醫學、口腔醫學、生物學、物理學、有機化學等各個領域的科技創新和制造。。由于等離子體清洗技術是為了實現材料表面的活化和刻蝕，處理后的材料表面親水性、粘附性和附著力將得到大幅提升。

電暈等離子處理設備

丙烷為飽和烷烴，電暈等離子處理設備直接利用子午線價值低；但丙烯缺口較大，因此有必要研究丙烷烯烴化。中國擁有豐富的天然氣和化石能源。隨著天然氣、油田天然氣和煉廠天然氣的不斷綜合利用，丙烷在天然氣、油田天然氣和煉廠天然氣中的含量迅速增加。因此，丙烷技術的發展對于合理利用丙烷、開辟丙烯新來源具有重要意義。目前丙烷脫氫主要有三種途徑：丙烷高溫蒸汽裂解、丙烷催化脫拉頓和丙烷氧化脫氫。