因此,特氟龍等離子體表面處理設備最初,到達絕緣體表面的電子數大于離子數。除部分復合外,電子過剩,絕緣體表面呈負電位。反對等離子。這種負電位排斥電子并吸引正離子。這個電勢也隨之變化,當絕緣體表面的負電勢達到一定值時,離子和電子的電流變相等,成為絕緣體表面的電勢。工件趨于穩定,這意味著放置在等離子體中的絕緣體稱為浮動基板,其表面形成的穩定電位稱為浮動電位。

特氟龍等離子刻蝕機

例如,特氟龍等離子體表面處理設備可用作電子束提取窗、高頻大功率電子器件、高靈敏度彈性表面波濾波器、切削工具等。

在 250-800 NM 波長范圍內,特氟龍等離子刻蝕機甲烷轉化過程中產生的主要活性物種。等離子體的作用是 CH(430.1 至438.7 NM)、C(563.2 NM、589.1 NM)、C2(512.9 NM、516.5 NM)和 H(434.1 NM、486.1 NM 和 656.3 NM)。在等離子體放電區,首先產生高能電子。

此外,特氟龍等離子刻蝕機長期使用時,表面易氧化,電阻增大,電極層間溫差增大,放電變得不穩定。電極的不良放電也可能是由于電極表面的污染。主要原因是,根據被加工材料的不同,真空泵不會噴出少量材料而粘附在電極表面上。如果不能定期清除,隨著時間的推移,材料會更容易堆積。被污染物堵塞。如果板體絕緣層的表面形狀被污垢堵塞,就相當于增加了電極容量,增加了放電功率。如果電極表面被粉末或碳等污垢堵塞,電極容量會降低。

特氟龍等離子刻蝕機

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等離子體振蕩是指等離子體中的電子由于慣性和離子靜電而發生的簡單振動。離子,也稱為等離子體,被認為是物質或超氣體的第四種形式。也就是說,它由電離的氣體、電子和非電離的中性粒子組成,整體呈電中性。通過等離子體表面處理產生的等離子體不必完全由離子組成。等離子表面處理器中的等離子需要不凝聚,組成等離子的粒子非常自由,粒子之間的相互作用很弱。凝聚態是由大量粒子組成的聚集態,液體和固體都是很常見的凝聚態。

特氟龍等離子刻蝕機

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