你知道兩種類型-真空等離子清洗機的控制方法嗎?-真空等離子清洗機是一種高精度、干洗設備,氧化物表面改性適用于混合集成電路芯片、單片集成電路芯片管殼及瓷基板的清洗;用于半導體、陶瓷電容電路、元器件封裝前、硅片蝕刻后、真空電子、射頻連接器、電磁閥等行業(yè)的精密清洗。能去除金屬表面的油脂、油和氧化層。也可用于塑料、橡膠、金屬和瓷器表面的活體(化學)和生命科學實驗。
銅引線框架的在線等離子清洗;引線框架作為封裝的主要結構材料,惰性氧化物表面改性貫穿整個封裝過程,約占電路封裝的80%,是用于連接內(nèi)部芯片和外部導線接觸點的金屬薄框架。引線框架的材料要求較高,必須具有高導電性、好導熱性、高硬度、優(yōu)異的耐熱性和耐腐蝕性、良好的可焊性和低成本等特點。從現(xiàn)有常用材料來看,銅合金可以滿足這些要求,作為主要引線框架材料。但銅合金具有較高的氧親和力,容易氧化,生成的氧化物會進一步氧化銅合金。
這種低選擇性蝕刻配方同時蝕刻側壁上的氧化硅、氮化鈦,氧化物表面改性以及光刻膠未覆蓋區(qū)域的溝槽中的有機物,然后用等離子清潔劑進行蝕刻。表面處理裝置CL2是主蝕刻氣體的過蝕刻步驟以去除殘留的氮化鈦。這種優(yōu)化方案減少了電路板材料和CD損耗,使其更加線性。它具有橫截面形狀,在U形溝槽中沒有氮化鈦殘留物。該方案與前兩種方案的主要區(qū)別在于去除了溝槽兩側未被光刻膠覆蓋的氧化硅。這種副作用可以通過補充氧化硅來解決。。
但氧化銅等污染物會造成模塑料與銅引線框架的分層,氧化物表面改...