傳統濕法處理的 SiC 表面存在的主要污染物是碳和氧。這些污染物可以在低溫下與 H 原子發生反應，表面活化劑的親水基團并以 CH 和 H2O 的形式從表面去除。等離子處理后表面的氧含量明顯低于常規濕法清洗。已發現表面雜質 C 的存在是制造半導體 MOS 器件和歐姆接觸的主要障礙。在等離子體處理后消除Cls的高能尾，即消除CC-H污染，有利于制備高性能歐姆接觸和MOS器件。

低溫氣氛下的射頻輝光等離子體技術通過多年的射頻電源研發經驗和對放電控制技術的深入實驗，表面活化劑的親水基團成功實現了大氣壓下的射頻均勻輝光放電，使射頻輝光放電不再需要真空態，實現了2000mm的最大寬均勻輝光放電，并在多個領域得到應用。該系統使用方便，性能穩定，功耗低，效率高。低溫常壓射頻輝光等離子體系統的應用領域FPD方面LCD、LTPS、OLED等基板玻璃表面清洗及預連接工藝設備，不需真空排氣。

控制效果:寬幅等離子設備有三種效果模式選擇。一是選用氬/氧組合，表面活化劑的種類及作用主要用于非金屬材料，加工效果較高。其次，選擇氬氣和氮氣的組合，主要針對待處理產品中存在不可處理金屬的區域。在此方案中，由于氧氣氧化性強，更換氮氣后問題可以得到控制。第三、只使用氬氣，只使用氬氣也可以達到表面改性，但效果相對較低。這是一些工業用戶需要同時進行均勻表面改性時使用的特殊情況。。。

國外已開展單層涂層厚度為納米級，表面活化劑的種類及作用層數在l00層以上的多元多層復和涂層技術的研究，所制備的涂層具有較高的耐腐性、韌性和強度，和基體的結和強度也好，表面粗糙度低，這對直精高速工削機械加工十人有利。國外已列入主要發展方面，予計在納米級精細涂層材料研究和應用領域會有新的突破。因為復和涂層技術具有抗磨損、抗高溫氧化腐蝕、隔熱等功能，能擴大涂層制品使用范圍，延長使用壽命，是一項在下一世紀會得到迅速發展的技術。

表面活化劑的親水基團

一些研究人員用NH3和N2等離子體處理金屬表面進入氨基，然后與碘甲烷反應使氨基季銨化，然后使用帶負電荷的抗凝劑肝素，將金屬表面與氨基季銨化，形成一種復雜的。這將肝素固定在金屬表面上。金屬表面形成的氮基團也可以用來固定蛋白質，大多數金屬材料的表面是通過附著一層親水性聚合物薄膜來固定的。在一定條件下，它與[H]或H-相互作用形成羥基（-OH），附著在基材表面。

電暈處理相對簡單實用，可用于連續生產，但放電均勻性差，處理效果低，薄膜易碎，電暈處理一直難以控制或克服。 3、等離子清洗機對塑料薄膜材料進行預處理的表面處理方法另外，薄膜材料在受到粒子物理沖擊后，形成微粗糙的表面，增加了塑料薄膜的表面自由能，達到改善材料的目的。和印刷性能。等離子清洗機的低溫等離子表面處理工藝簡單，操作方便，清潔無污染，符合環保要求。此外，該處理方法安全高效，不損傷薄膜材料。要求不高。。

如何解釋等離子清洗器的清洗效果？廣東等離子體清洗儀先告訴你等離子體的定義：等離子體是物質的一種狀態，也叫第四種物質狀態，不屬于常見的固-液-氣三種狀態。施加足夠的能量使氣體電離，就變成了等離子體狀態。等離子體清洗儀的“活性”成分包括離子、電子、原子、活性基團、激發核素（亞穩態）、光子等。從機理上看：等離子體清洗儀在清洗工作氣體時，在電磁場的作用下，由等離子體激發與物體表面發生物理反應和化學反應。

血漿&ldquo；活動&rdquo；成分包括：離子、電子、活性基團、激發核素（亞穩態）、光子等，等離子體清洗機就是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，從而達到清洗等目的。常壓等離子清洗機可配置多種型號的噴嘴，用于不同場合，以滿足各種不同的產品和加工環境；設備體積小，攜帶移動方便，節省使用空間；In-Line可以安裝在設備生產線上，降低投入成本；使用壽命長，維護費用低等。

表面活化劑的種類及作用

另一方面，表面活化劑的親水基團等離子體處理器的表面處理可以提高被處理材料的表面粗糙度，破壞其非晶區和晶區，疏松被處理材料的表面結構，增加間隙，增加染料/油墨分子的可能性面積。另一方面，從表面引入的極性基團可以通過范德華相互作用力、氫鍵和化學鍵吸附染料/油墨分子。低溫等離子體處理可以提高分散染料在PET纖維上的吸附。采用低溫等離子體處理器對亞麻織物進行處理。經熱水浸泡后，織物的印染特性良好，不影響織物的力學性能。

-等離子體表面處理儀含有大量離子、激發分子和自由基等許多活性粒子，表面活化劑的種類及作用會作用于樣品表面，并能去除樣品表面原有的污染物和雜質。該過程還會產生腐蝕，可使試樣表面粗糙，形成若干小凹坑，增加試樣表面粗糙度，提高固體表面的附著力和潤濕性。不銹鋼金屬表面能不能用等離子表面處理機處理，提高粘接能力?具體功能如下:1。-等離子體表面處理提高了金屬表面的親水性，同時減少氣泡粘結。等離子體表面處理裝置解決表面粗糙度問題。