然后電鍍包含通孔的圖案化跡線。這種技術(shù)的明顯優(yōu)勢(shì)是它只需要一次成像操作。但是，小面積鍍層測(cè)附著力缺點(diǎn)是巨大的，包括： 1) 總體跡線圖案必須物理連接，以便始終執(zhí)行電鍍。如果電氣連接中斷，表面將不再電鍍。 2) 這些痕跡會(huì)導(dǎo)致電流密度和分布不均勻，從而影響鍍層厚度的一致性。 3) 與圖案電鍍工藝類似，所有走線都是鍍銅的，這會(huì)導(dǎo)致靈活性和阻抗控制問(wèn)題。 4) 細(xì)線跡會(huì)限制電流容量并可能導(dǎo)致電鍍問(wèn)題。

在電鍍前，鍍層測(cè)附著力外殼表面不可避免地形成各種污染物，包括灰塵、固體顆粒、有機(jī)物等，同時(shí)由于自然氧化，還存在氧化層。電鍍前必須清洗被鍍件表面，否則會(huì)影響鍍層與基體的結(jié)合力，造成鍍層剝落、起泡。為了去除這類污染物，采用甲苯、丙酮、酒精等有機(jī)溶劑進(jìn)行超聲波清洗。但一方面這種方法不徹底，容易造成涂層缺陷。另一方面增加了制造成本，造成環(huán)境問(wèn)題。

通常采用機(jī)械方式，鍍層測(cè)附著力使孔邊和內(nèi)孔壁無(wú)倒刺或堵孔的現(xiàn)象產(chǎn)生． 2．除油污 3.粗化處理：主要保證金屬鍍層與基體之間良好的結(jié)合強(qiáng)度。 4．活化處理：主要形成“引發(fā)中心”，使銅沉積均勻一致。

如果柵氧化區(qū)面積小，小面積鍍層測(cè)附著力柵區(qū)面積大，大面積柵收集的離子會(huì)流向小面積柵氧化區(qū)。注入柵極的隧道電流也需要襯底來(lái)保持電荷平衡。隨著這種增加，增加的因素是柵極的氧化面積與柵極的比值，損壞效應(yīng)增加。這是一種稱為“天線效應(yīng)”的現(xiàn)象。對(duì)于柵極注入，隧穿電流和離子電流之和等于等離子體中的總電子電流。由于大電流，只要柵氧化層的場(chǎng)強(qiáng)可以產(chǎn)生隧穿電流而不增加天線的實(shí)用性，就會(huì)發(fā)生等離子體損壞。

鍍層測(cè)附著力

...平帶電壓、漏電流等參數(shù)。具有天線器件結(jié)構(gòu)的大面積離子收集區(qū)（多晶或金屬）通常位于厚場(chǎng)氧化物上，因此只需考慮隧道電流對(duì)薄柵氧化物的影響。收集區(qū)的大面積稱為天線，帶天線的器件的隧穿電流放大系數(shù)等于厚場(chǎng)氧化物收集區(qū)面積與氧化層面積之比柵極氧化物。該面積稱為天線比。如果柵氧化區(qū)面積小，柵區(qū)面積大，大面積柵收集的離子會(huì)流向小面積柵氧化區(qū)。注入柵極的隧道電流也需要襯底來(lái)保持電荷平衡。

如果柵氧區(qū)較小，而柵極面積較大，大面積柵極收集到的離子將流向小面積的柵氧區(qū)，為了保持電荷平衡，由襯底注人柵極的隧道電流也需要隨之增加，增加的倍數(shù)是柵極與柵氧面積之比，增加了損傷效用，這種現(xiàn)象稱為“天線效用”。對(duì)于柵注入的情況，隧道電流和離子電流之和等于plasma中總的電子電流。因?yàn)殡娏骱艽螅词箾](méi)有天線的增加效用，只要柵氧化層中的場(chǎng)強(qiáng)能產(chǎn)生隧道電流，就會(huì)引起plasma損傷。

此外，材料的性質(zhì)不同，其初始表面可以不同，反映的液滴角度數(shù)據(jù)也不同，一般來(lái)說(shuō)，有機(jī)材料由于材料的不同，加工前后差異較大，而無(wú)機(jī)材料則通過(guò)等離子體處理去除表面油污和表面粗化，使水滴的數(shù)量角保持在較低水平。還需要注意的是，液滴角度測(cè)試需要對(duì)變量進(jìn)行控制，即統(tǒng)一每個(gè)測(cè)試的液滴尺寸，確保測(cè)試用水量不發(fā)生顯著變化。dyne筆測(cè)試法是一種成本低、測(cè)量快、操作簡(jiǎn)單的方法。

在蝕刻過(guò)程中，添加CHF3、N2、CH4等氣體以快速形成聚合物并提供側(cè)壁保護(hù)。這優(yōu)先將氟、氮或碳?xì)浠衔镂降浇饘黉X側(cè)壁，進(jìn)一步減少氯原子和鋁側(cè)壁。 壁接觸反應(yīng)以保護(hù)側(cè)壁，增加氯基氣體對(duì)金屬鋁的各向異性蝕刻能力。等離子工業(yè)清洗機(jī)研究了這三種不同氣體對(duì)蝕刻后金屬鋁側(cè)壁形態(tài)的影響。結(jié)果表明，N2保護(hù)氣體在刻蝕過(guò)程中產(chǎn)生了過(guò)多的側(cè)壁保護(hù)，并傾向于形成梯形側(cè)壁。

小面積鍍層測(cè)附著力

當(dāng)樣品放入反應(yīng)室時(shí)，小面積鍍層測(cè)附著力真空泵啟動(dòng)真空泵到一定程度，接通電源產(chǎn)生等離子體，氣體通過(guò)反應(yīng)室內(nèi)的等離子體進(jìn)入反應(yīng)室，樣品與volatile 產(chǎn)生的副產(chǎn)品。它由真空泵提取。真空等離子清洗機(jī)中的等離子在宏觀水平上是電中性的。在正常情況下，等離子體是電中性的，但如果受到任何干擾，等離子體中的部分電荷就會(huì)分離出來(lái)，從而產(chǎn)生電場(chǎng)。

等離子清洗機(jī)不放電或放電不穩(wěn)定，鍍層測(cè)附著力往往是等離子發(fā)生器阻抗匹配出的情況。當(dāng)?shù)入x子體發(fā)生器發(fā)射能量,如果反應(yīng)腔和電極的阻抗(以下簡(jiǎn)稱負(fù)載)不等于傳輸線的特性阻抗,它將反映在傳輸過(guò)程中,通過(guò)加熱和部分能量散失和其他方面,而不是所有的能量都被負(fù)載的等離子體吸收的等離子清洗機(jī)。這將直接影響等離子體表面處理的效果。