該反應的主要產物是C2H6、C2H4、C2H2、CO和H2，附著力促進劑作用機理可能的反應機理如下。
等離子體常用的激勵頻率有三種:激勵頻率為40kHz的超聲波等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。不同的等離子體產生不同的自偏置電壓。超聲等離子體的自偏置約為1000V，鋁合金附著力促進劑功效射頻等離子體的自偏置約為250V，微波等離子體的自偏置很低，僅為幾十伏特，三種等離子體的機理不同。
2、低溫等離子體降污機理，附著力促進劑作用機理等離子表面處理器在等離子體化學反應過程中的能量轉移，等離子體化學反應中的能量轉移大致如下：(1)電場+電子→高能電子的組合；(2)高能電子+分子(或原子)→活性基團(受激原子、受激基團、游離基團)；(3)活性基+分子(原子)→生成物+熱；(4)活性基+活性基→生成物+熱。
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等離子清洗機中加工處理存有著很多的混合氣體分子結構、電子器件和離子外，還存有很多受激發的中性原子、原子團氧自由基及等離子射出去的光束。等離子清潔是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基以及射出去的光束與被清潔外表的污染物質分子結構分別出現活化反映而因此將污染物質消除的全過程。
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