3、PLASMA處理的表面粗化與蝕刻作用：對(duì)應(yīng)不同的材料采用相應(yīng)的氣體組合形成具有強(qiáng)烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及物理沖擊，煙霧為什么附著力弱的原因使材料本體表面的固態(tài)物質(zhì)被氣化，生成如CO、CO2、H2O等氣體，從而達(dá)到微蝕刻的目的。 主要特點(diǎn)：刻蝕均勻，不改變材料基體特性；能有效粗化材料表面，并能精準(zhǔn)控制微蝕量。

由于高溫等離子體對(duì)物體表面的強(qiáng)烈作用，煙霧為什么附著力強(qiáng)烈在實(shí)際應(yīng)用中很少使用，目前只在低溫下使用Ionosomes,因?yàn)槔涞入x子體被稱為等離子體短,我希望讀者不會(huì)誤解。

圖 1.2 等離子體產(chǎn)生原理（以水為例）等離子體由大量離子和自由電子組成，煙霧為什么附著力強(qiáng)烈整體上表現(xiàn)為近似電中性，與物質(zhì)的三態(tài)一樣，是物質(zhì)存在的一種聚集態(tài)。從宏觀上看，等離子體是一種導(dǎo)電的流體，由等離子體的生成過程可知，當(dāng)給氣體施加顯著的高溫或高能量時(shí)，中性的物質(zhì)就會(huì)被離解成離子、電子和自由基。另外，等離子體本身具有變成為電中性的強(qiáng)烈傾向，等離子體中的電荷分離需要由等離子體本身的內(nèi)能（熱能）或外加電場(chǎng)來維持。

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煙霧為什么附著力弱的原因

化學(xué)反應(yīng)室中的氣體電離是指離子、電子、自由基等活性物質(zhì)的等離子體，通過擴(kuò)散吸收于表象介質(zhì)中，并與表象介質(zhì)中的原子反應(yīng)，形成揮發(fā)性物質(zhì)。而且，高能離子在一定壓力下物理轟擊和蝕刻介質(zhì)的外觀，去除再沉積的化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物和聚合物。介質(zhì)層的刻蝕是通過化學(xué)和物理相互作用完成的。刻蝕是晶圓制造的重要環(huán)節(jié)，也是微電子IC制造工藝和微納制造工藝中的重要環(huán)節(jié)。

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等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng)，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機(jī)，因此將極具挑戰(zhàn)性，也充滿機(jī)會(huì)，由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速成長，此方面應(yīng)用需求將越來越大。。

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