活性組分包括:離子、電子、活性基團、激發態核素(亞穩態)、光子等。等離子體清洗機就是利用這些活性組分的性質對樣品表面進行處理，面漆對涂層附著力的影響從而達到清洗的目的。等離子體與固體、液體或氣體一樣，是一種物質狀態，也被稱為物質的第四種狀態。給氣體施加足夠的能量使其游離成等離子體狀態。等離子體的活性組分包括:離子、電子、活性基團、激發態核素(亞穩態)、光子等。

不同氣體的等離子體具有不同的化學性質，面漆對涂層附著力的影響如氧等離子體氧化性高，可氧化光刻膠產生氣體，從而達到清洗效果（果實）；腐蝕氣體的等離子體具有良好的各向異性，可以滿足刻蝕的需要。等離子體處理會發出輝光，故稱輝光放電處理。

氬和氦的性質穩定，面漆對涂層附著力的影響且放電電壓低（氬原子的電離能E為15.57eV）易于產生亞穩態的原子，首先等離子處理設備利用其高能粒子的物理作用凈化易被氧化或還原的對象，Ar+的電離能產生亞穩態原子，從而避免表面材料發生反應；其次利用氬氣易產生亞穩態的原子，再與氧氫氣分子碰撞時發生電荷轉換和再結合，從而避免表面材料發生反應。

等離子表面處理裝置的等離子體中粒子的能量一般在幾個到幾十個電子伏特左右，涂層附著力破環性質大于高分子材料的鍵能（幾個到10個電子伏特），可以完全破壞化學物質。 .有機聚合物的鍵 形成新的鍵，但遠低于高能放射線，只涉及材料的表層，不影響基體的性能。在非熱力學平衡的冷等離子體中，電子具有很高的能量，可以破壞材料表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應性（比熱等離子體大）。

涂層附著力破環性質

大約是 250 伏。它非常低。機制也不同。超聲波高頻等離子技術裝置的反應是物理反應，高頻等離子技術裝置的反應是物理化學反應，微波等離子技術的反應是化學反應。超聲波等離子清洗對表面清洗有重大影響，因此高頻等離子設備和微波等離子清洗主要用于現實世界的半導體制造應用。超聲波等離子技術對等離子技術的表面進行物理清洗、脫膠、去毛刺等，具有很高的物理清洗（效果）效果。

醫院、制藥業、養殖業排放的廢水中往往含有大量抗生素殘留。這些廢水如果不經處理直接排放，將嚴重影響生態平衡，威脅人類健康。等離子體處理被認為是固體、液體和氣體以外的物質存在的“第四狀態”。近年來，等離子體治療在工業、農業、生物醫藥等諸多領域顯示出廣闊的應用前景。黃慶研究員與企業合作，提出了利用“等離子體生物技能”處理廢水、降解抗生素的方案。

如此產生的電離氣體叫做氣體放電等離子體。大氣等離子清洗機按所加電場的頻率不同，氣體放電可以分為直流放電、低頻放電、高頻放電、微波放電等多種類型。直流（DC）放電因其簡單易行，特別是對于工業大氣等離子清洗機裝置來說可以施加很大的功率至今仍被采用。低頻放電的范圍一般是1- kHz，現在裝置常用的頻率為40kHz。

等離子清洗/蝕刻機在密閉容器中設置兩個電極產生電場，利用真空泵實現一定的真空度產生等離子。形成等離子體時，這些離子非常活潑，它們的能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，從而在暴露的表面上引起化學反應。此外，各種氣體的等離子體具有各種化學性質，如氧等離子體具有很強的氧化性。它氧化和反應攝影者產生氣體，達到清潔效果。腐蝕性氣體等離子體具有高度的各向異性，可以滿足蝕刻要求。

涂層附著力破環性質

一、等離子清洗機的包裝在準備等離子清洗機之前，面漆對涂層附著力的影響要將等離子清洗機的備件進行拆卸并擺放整齊，如電源、真空泵、三色報警燈等，其他要清洗設備的外觀。先將設備主體及所有拆下的配件用纏繞膜包裹。然后在下一層涂上一定厚度的珍珠棉。然后用纏繞膜包裹另一層以提供足夠的保護。

氫離子等離子體發生器電源等離子體放電當選擇惰性氣體進行等離子體表面處理時，涂層附著力破環性質如果處理后的高分子材料本身含有氧氣，大分子就會開裂產生大分子碎片，大分子碎片進入等離子體為等離子體系統提供氧氣，也會產生氧等離子體效應。如果材料本身不含氧，經懶等離子體處理后，新的自由基（半衰期可達2～3天）和空氣中的氧效應也可導致氧與大分子鏈的結合。