一種是直噴頭，直噴等離子清洗機(jī)哪家好另一種是旋轉(zhuǎn)噴頭。直接噴霧用于清潔標(biāo)簽和手機(jī)框架等小部件。旋轉(zhuǎn)式噴嘴清洗面積大，可安裝多個(gè)噴嘴左右移動(dòng)，大大擴(kuò)大了清洗面積。大氣等離子表面處理設(shè)備具有RS485/232數(shù)字通訊口和模擬控制口，滿足用戶的多樣化要求。一般來(lái)說(shuō)，在線可以安裝在用戶設(shè)備的生產(chǎn)線上，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)拆裝、清洗生產(chǎn)線，節(jié)省人工，提高運(yùn)行（效率）效率。大氣壓等離子表面處理設(shè)備不僅成本低、處理量大，而且維護(hù)方便，具有諸多優(yōu)點(diǎn)。

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常壓等離子和真空等離子使用上面的區(qū)別 有如下：一是噴嘴的結(jié)構(gòu)不同。常壓機(jī)有兩種噴嘴，江蘇直噴等離子清洗機(jī)哪家好要么是直噴的等離子，這一種噴嘴等離子集中，力道大，能量高，但是面積比較小，還有一種旋噴型，力道相對(duì)比較小的一點(diǎn)，但是等離子噴射的面積比較寬，目前旋噴頭可以做到直徑8公分。真空腔里面的等離子是不定向的，只要是裸露在外面的表面，都可以清洗到，這也是真空等離子清洗機(jī)的一大好處。

plasma清洗機(jī)雙極性脈沖均可在小電極間隙下驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生均勻放電等離子體，直噴等離子清洗機(jī)哪家好而在大電極間隙下，短脈寬則有利于在大氣壓下實(shí)現(xiàn)均勻放電。脈沖寬度為20ns時(shí)，可以在較大的電極間隙內(nèi)產(chǎn)生均勻放電，但隨脈沖寬度的增大，均勻放電逐漸減小。在200ns電壓脈寬時(shí)，放電間隙出現(xiàn)明顯的絲狀放電通道，氣體擊穿模式轉(zhuǎn)變?yōu)榱髯⒎烹娔Ｊ健?/p>

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Marafee等研究了電暈放電等離子體中，帶有OH基團(tuán)的金屬氧化物催化劑對(duì)甲烷氧化偶聯(lián)反應(yīng)的影響，結(jié)果表明：帶有OH基團(tuán)的催化劑可增強(qiáng)氣體放電作用而導(dǎo)致甲烷轉(zhuǎn)化率和C2烴收率明顯提高。研究表明：催化劑的堿性有利于C2烴生成。（3）催化劑對(duì)反應(yīng)物有活化作用。催化劑通過(guò)吸附作用活化反應(yīng)物，促使反應(yīng)物轉(zhuǎn)化。

一些粒子也被注入到材料表面，引起碰撞、散射、激發(fā)、位錯(cuò)、異構(gòu)化、缺陷、結(jié)晶和非晶化，從而改變材料的表面性質(zhì)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，濕法刻蝕由于其固有的局限性不能滿足微米或納米細(xì)線的超大型集成電路的加工要求，逐漸制約了它的發(fā)展。多晶硅晶片等離子清洗設(shè)備的干法刻蝕方法由于具有離子密度高、刻蝕均勻、刻蝕側(cè)壁垂直度高、表面粗糙度高等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體加工技術(shù)中。

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