1、等離子體發生器根據等離子體火焰溫度點：（1）高溫等離子體等離子體發生器：溫度相當于108～109K完全電離等離子體，10kw電暈機如太陽能和受控熱核聚變等離子體。（2）低溫等離子體等離子體發生器：熱等離子體：致密高壓（1大氣壓以上），溫度103～105K，如電弧、高頻和燃燒等離子體。

板材產品要求：1.產品材質:FPC，10kw等離子電暈處理機上部有粘性黃膠；2.達因值為34&uarr；；3.治療時效達到1周&UARR；；4.塑料箱用于裝運前處理，塑料箱應無靜電、無變形。等離子體處理電路板的效果；1.治療前達因值：32達因筆&Darr；治療后達因筆達70&UARR；；2、處理前接觸角達到80度，處理后接觸角達到10度；3辦理時間:60s（時間可重新優化）；4.氣體：氧氣。

3.《非三防部件（區域）目錄》明細中規定的不能使用三防漆的裝置。規程中常規未涂覆裝置如需涂覆，10kw電暈機可按研發部門規定要求涂覆或在圖紙上標注。三防漆噴涂工藝的噴射項目1、PCBA必須有工藝邊緣，寬度不應小于5mm，便于上機運行。2、PCBA板最大長寬為410*410mm，最小長度為10*10mm。3.安裝在PCBA上的組件高度限制為80mm。4.組件在PCBA上的噴涂區與非噴涂區之間的較小距離為3mm。

[40]氧化蝕刻硅片后，10kw等離子電暈處理機用O2等離子體去除硅片表面的氟化烴聚合物，發現聚合物完全去除，硅片沒有損失。Kokubo[41]利用惰性氣體等離子體（如Ar、Kr、Xe、N2等）將全氟烷基乙烯基醚聚合物薄膜的比電阻從1014Ω·cm降低到109～108Ω·cm。賓德等人。[42]發現等離子體處理可以提高聚合物電容器的擊穿強度。

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2.適應性廣：無論要處理的襯底類型如何，都可以處理，如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料；3.低溫：接近常溫，特別適用于高分子材料，比電暈、火焰方式存放時間更長，表面張力更高。4.功能強：只涉及高分子材料的淺表面(10-0A)，可賦予其一種或多種新功能，同時保持其自身特性；5.成本低：裝置簡單，操作維護方便，可連續運行。往往幾瓶煤氣就能代替上千公斤的清洗液，所以清洗成本會比濕式清洗低很多。

隨著太陽活動周期的延續，越來越多的太陽黑子出現，主要出現在南北半球35度左右的緯度，10多年后慢慢向赤道移動，然后再次消失，進入下一個太陽活動極小期。這一過程的近似中點是太陽活動的較大值，此時黑子豐富。推測太陽黑子何時演化是一個重大科學目標，部分原因是太陽黑子活動與太陽風暴有關，太陽風暴可以破壞地球高層大氣，影響GPS信號、電網和其他關鍵技術。然而，事實證明，這樣的猜測是相當具有挑戰性的。

氧自由基容易破壞原有化學鍵，與薄膜中的甲基反應生成羥基羧基、羰基等極性基團，提高了薄膜的表面極性。等離子等離子體處理能有效改善薄膜的表面性能，增加表面潤濕張力并延緩其衰減，明顯提高鍍鋁后鋁層的附著牢度。而且等離子等離子體處理對熱封性能不產生反電暈效應，由于薄膜受熱較少，在處理過程中薄膜的物理機械性能不發生變化。從微觀角度看，氣體對材料的滲透機理是分子擴散的過程。

同時，由于低溫等離子體是電中性的，等離子體清洗機在加工過程中不會損傷保護膜、ITO膜和偏振濾光片。等離子清洗機不需要溶劑，因此更環保。等離子清洗機（等離子清洗機）又稱等離子刻蝕機、等離子脫膠機、等離子活化機、等離子清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子體處理器廣泛應用于等離子體清洗、等離子體刻蝕、等離子體晶片脫膠、等離子體鍍膜、等離子體灰化、等離子體活化和等離子體表面處理等領域。

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等離子清洗機又稱等離子刻蝕機、等離子凝膠去除機、等離子活化機、等離子清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子體處理器廣泛應用于等離子體清洗、等離子體刻蝕、等離子體晶片脫膠、等離子體鍍膜、等離子體灰化、等離子體活化和等離子體表面處理等領域。通過等離子清洗機的表面處理，10kw等離子電暈處理機可以提高材料表面的潤濕能力，對各種材料進行涂層和電鍍，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。