每次放置一段時間，硬板等離子表面處理機器都需要注意清潔灰塵，注意防潮，防止灰塵成為靜電的“隱形殺手”。 2. 摩擦屏幕時要小心。靜電在屏幕上是不可避免的，并且經常清潔屏幕。如果清潔不當，會損壞屏幕，影響畫質效果。首先，不要經常摩擦屏幕。建議使用特殊的屏幕摩擦材料或柔軟的棉布。另外，不要用化學物質擦拭。化學品的使用會破壞屏幕表面的氧化保護膜，增強屏幕的功效。此外，水也不是很好的清潔劑，因為它會在屏幕上留下水印。

這些小分子物質沉降在塑料表面，硬板等離子表面處理機器容易聚集，形成強度低的弱界面層。這種薄弱邊界層的存在顯著降低了塑料的粘合強度。其次，目前有針對難以附著的塑料的表面處理方法。提高非粘性塑料的粘合性主要是通過對材料表面進行處理和研發新型粘合劑來實現的。其中，處理耐火塑料表面的主要方法如下。 (1) 將極性基團引入塑料表面難以粘附的分子鏈中； (2) 提高材料的表面能； (3) 提高表面粗糙度。產品；④減少或消除產品表面的弱界面層。

但由于石墨膜具有層狀晶體結構，硬板等離子表面處理機器片間存在范德華力，石墨膜的垂直導熱率低，有一定的隔熱作用，影響嚴重。石墨膜的散熱性能。石墨膜/金屬基復合材料利用金屬材料優異的導熱性，有效地彌補了石墨膜的低導熱性。目前主要的制備方法是銅等金屬的磁控濺射。石墨膜表面的一層薄膜。或者，通過復卷機將石墨膜、導熱粘合劑和金屬材料結合起來。磁控管濺射法制備石墨膜/金屬基復合材料成本高、耗能大，難以實現大規模材料制備和連續化生產。

用等離子體技術處理固體表面后，硬板等離子體刻蝕機可用接觸角定量測量表面的潤濕性，接觸角儀可直接測量接觸角。接觸角的一些潤濕性條件如下所示。接觸角為 0 表示物體完全濕潤，液體有助于在固體表面擴散。大于零且小于 90 度的接觸角表明該表面是部分潤濕的并且該表面是親水的。如果接觸角為90度，就是潤濕的分界線，如果接觸角超過90度，就沒有潤濕，這就是疏水接觸角。液體在固體表面凝結成一個大球體。如果接觸角為 180 度，則完全不潤濕。

硬板等離子體刻蝕機

隨著微電子器件的小原子層沉積（ALD）技術的快速發展，該技術對于高縱橫比的溝槽和具有復雜三維結構的表面具有出色的臺階覆蓋率。更重要的是，它是基于前體表面的。限制自化學吸附反應，ALD可以通過控制循環次數來精確控制薄膜厚度。在ALD工藝中，沉積材料的前體和反應的前體交替進入反應室。在此期間，未反應的前體被惰性氣體吹掃，使反應氣體交替進入自限沉積模式。近年來，許多研究人員使用原子層沉積技術沉積銅薄膜。

硬板等離子表面處理機器