表3-3不同催化劑在等離子體201催化劑作用下的催化活性轉化率/ %選擇性/ %收率/ %比/mol,C2H6CO2C2H4C2H2C2H4和C2H2C2H4/C2H2H2/COWithout催化劑33.822.712.425.412.70.482.3410la2o3 /Y-Al2Oy37． 518.520.832.019.80.652.7410CeO2 / Y-Al2O342.420.620.431.321.80.652.64Pd / Y - 0.1 Al2O330.024.646.76.315.97.401.46Note:反應條件如下:催化劑用量0.7毫升,放電功率20 w(峰值電壓28 kv:頻率44 hz),流量25毫升/分鐘,飼料C2H6 (50 vol. %)和二氧化碳(50 vol. %)。

表3-5等離子體和10CeO2fY-Alz03共同作用下能量密度對乙烷轉化反應影響能量密度/(kJ/mol)轉化率/%選擇性/%總收率/%比率/molC2H6CO2C2H4C2H2C2H4和C2H2C2H4/C2H2H2/CO38010.58.936.0549.60.652.4754016.012.033.85714.00.632.5168023.415.428.644.017.00.652.6172032.017.022.833.518.00.682.6780042.420.620.431.321.80.652.74103052.626.319.129.025.30.662.91135061.530.117.227.427.50.632.89150072.841.116.224.229.40.672.71注：反應條件為催化劑用量0.7ml；進料C2H6（50vol.%)，附著力樹脂306CCO2（50vo1.%）。

表3-5 等離子體和10CEO2FY-ALZ03聯合作用下能量密度對乙烷轉化反應的影響能量密度/(KJ/MOL)轉化率/%選擇性/%總收率/%比/MOLC2H6CO2C2H4C2H2C2H4和C2H2C2H4/C2H2H2/CO38010。 58.936.0549.60.652.4754016.012.033.85714.00.632.5168023.415.428。

當放電壓力達到一定值時，附著力樹脂306C自由基的強度出現較大的值，即在一定條件下等離子體在聚合物表面的反應非常深。因此，相應的產品需要控制相應的時間。

附著力樹脂306C

在等離子體,由于玻璃襯底(電)的電荷粒子的等離子體,第一襯底表面吸附環境氣體,水蒸氣,污垢,等等,轟炸來激活它,使表面清潔,提高表面能,當薄膜的沉積原子或分子沉浸在襯底表面,加大范德華力。第二是玻璃基板表面受到電荷粒子(電)的沖擊，在這種沖擊下，玻璃基板表面會形成許多凹坑、孔洞，在沉積過程中，薄膜中的原子或分子進入這些凹槽、孔洞，造成機械鎖緊力。

就碰撞的類型而言，等離子體清洗機中的粒子間的碰撞主要能夠分為彈性碰撞和非彈性碰撞兩種，我們先來了解一下等離子體清洗機中的彈性碰撞：等離子體清洗機中的彈性碰撞通常是指一種碰撞類型，通常表現為在碰撞的過程中粒子的總動量守恒，總動能守恒，參與碰撞的粒子內能不變，沒有新的粒子或光子產生，只改變粒子速度，發生動量和動能轉換。

常壓法低溫等離子體表面預處理工藝可與多種后續加工工藝配合使用，其中最典型的是印刷、粘接、噴涂和雙組分注塑。 涂裝前進行預處理、常壓低溫等離子表面處理，可提高溶劑型油墨的耐久性，改善印刷品質量，提高印刷品的耐候性、耐候性，使顏色更加鮮艷，圖案印刷更加正確。如果采用均勻的等離子體處置熱敏性材料，與電暈處理相比，不會對表面造成任何傷害。

離子轟擊破壞清潔后的表面，削弱化學鍵，形成原子態，容易吸收反射體。正離子碰撞加熱被清洗的物體，容易反射。。常用的等離子體激勵頻率有三種：激勵頻率為40kHz的超聲等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。

附著力樹脂306C