各種等離子設備在我們的生活中使用的還是比較多的，塑料表面的電暈處理設備等離子技術與傳統的加工技術相比，顯然有助于提高我們的工作效率。
此外，塑料表面電暈處理機根據晶片厚度，可以在有或沒有載體的情況下處理晶片。等離子室規劃提供優異的蝕刻均勻性和工藝重復性。主要的等離子體表面處理技能包括各種蝕刻、灰化和除塵工藝。其它等離子體工藝包括去污、表面粗糙化、水分增強、增強結合和粘附強度、光致抗蝕劑/聚合物剝離、電介質蝕刻、晶片脹形、有機污染物去除和晶片脫模。晶圓清洗-等離子體設備將去除污染物，有機污染物，鹵素污染物，如氟化物，金屬和金屬氧化物之前，晶圓顛簸。
3)O2在等離子體設備產生的等離子體環境中能電離產生許多氧化基團，塑料表面電暈處理機能高（效率）去除原料表面的有機污垢，吸收原料表面的化學基團，高（效率）提高原料的結合，等離子體設備表層清潔后，表層能力更高，能與塑封原料高效結合，減少塑封過程中分割和針孔的發生。
大家用等離子清洗機清洗手機屏幕，塑料表面電暈處理機發現經過等離子處理的手機屏幕表面完全被水浸泡。目前組裝技術的主要趨勢是SIP、BGA和CSP封裝，使得半導體器件向模塊化、高集成度和小型化方向發展。在這個封裝組裝過程中，最大的問題是有機污染和電加熱過程中形成的氧化膜。鑒于粘接表面污染物的存在，這些組件的粘接強度和樹脂密封強度的降低立即影響到這些組件的組裝水平和協調發展。為了提高這些部件的裝配能力，大家都在想方設法進行理性。
塑料表面電暈處理機
將待處理的PTFE聚四氟乙烯放入等離子表面處理設備的腔室中，打開真空泵抽至一定的真空值；然后，引入工藝氣體，啟動等離子體發生器，電離產生的等離子體與材料表面反應，產生的副產物用真空泵抽走，在表面聚合接枝，沉積一層極性物質；處理工藝完成后，關閉等離子體發生器，反沖氣體打破真空，再打開腔室取出處理后的PTFE聚四氟乙烯材料。
由表3-3可知，C2H6和CO2的轉化率分別為33.8%和22.7%，C2H4和C2H2的總收率為12.7%。負載型稀土氧化物催化劑(La2O3/Y-Al2O3和CeO2/Y-Al2O3)引入反應體系后，C2H6的轉化率、C2H4的選擇性和產率、C2H2的選擇性和產率均有所提高，而CO2的轉化率略有下降。
這在全球高度關注綠色環保的形勢下凸顯了其重要性；4.在無線電波范圍內選擇高頻形成的等離子體與激光束等輻照光束不同。等離子體不具有方向性，這使得有可能更深入到清洗靶材的原材料細孔和凹陷內部結構中，不需要過多考慮清洗后的原材料形狀。且這類困難清洗位置的清洗效果與空調氟利昂清洗相近甚至更好；5.使用_等離子清洗機可促使清洗效率大幅提高。
離子在金屬表面清洗過程中的作用一方面，陽離子被帶負電荷的物體表面加速獲得巨大動能，發生純物理碰撞，可剝離附著在物體表面的污垢遠離；另一方面，陽離子的沖擊也能增加污染物分子在物體表面發生（活化）反應的幾率。自由基在金屬表面清洗過程中的作用一般情況下，等離子體中自由基比離子多，電中性，壽命長，能量比大。
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