濕法刻蝕是利用溶液與預刻蝕材料發生化學反應，干蝕刻設備經理去除未覆蓋的區域，達到刻蝕目的的純化學反應步驟。干法蝕刻的種類很多，主要有揮發性、氣相和等離子腐蝕。等離子蝕刻是最常見的干蝕刻形式。等離子刻蝕機的基本原理是將ICP射頻形成的射頻輸出到環形耦合線圈，產生一定比例的混合刻蝕氣體。通過結合光放電形成高密度。等離子體。

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