問：等離子清洗過程中是否會發生污染？答：等離子表面處理是一種“干凈”的處理工藝。在加工過程中，氬氣等離子清潔機器電離空氣會產生少量的臭氧O3，但對于某些材料，在加工過程中會分解出少量的氮氧化物。 , 并且必須配備排氣系統。問：等離子清洗工藝需要特殊氣體嗎？答：除壓縮空氣外，在線處理過程不需要任何其他特殊氣體。但是，如果輝光放電裝置在大氣壓以下，可以充入氬氣或氦氣等惰性氣體，在與空氣不同的氣氛中進行表面處理。

從機械角度看：等離子清洗機在清洗時，氬氣等離子清潔設備工作氣體在電磁場的作用下激發的等離子與物體表面發生物理化學反應。其中，物理反應機制是活性顆粒與待清潔表面碰撞，將污染物從表面分離出來，最后被真空泵吸走。化學反應機理是各種活性顆粒與污染物的反應。它產生揮發性物質并用真空泵將其吸入。性物質。達到清潔的目的。我們的工作氣體經常使用氫氣（H2）、氮氣（N2）、氧氣（O2）、氬氣（AR）、甲烷（CF4）等。

第一步是用氧氣氧化表面5分鐘，氬氣等離子清潔設備第二步使用氫氣和氬氣的混合物去除氧化層。也可以同時處理多種氣體。 1.3 焊接 通常，印刷電路板在焊接前用化學助焊劑處理。這些化學物質必須在焊接完成后通過等離子方法去除。否則會出現腐蝕等問題。 1.4 粘合 良好的粘合通常會因電鍍、粘合和焊接操作的殘留物而被削弱。這些殘留物可以通過等離子體方法選擇性地去除。同時，氧化層也對鍵合質量產生不利影響，需要等離子清洗。

同時，氬氣等離子清潔它可以非常均勻地處理整個表面而不會產生有毒氣體，即使是有空洞和縫隙的樣品也是如此。 - 無需溶劑預處理 - 適用于所有塑料 - 環保 - 工作空間小 - 成本低 等離子表面處理可以很容易地用水確認，處理后的樣品表面完全被水潤濕。長時間的等離子處理（15 分鐘或更長時間）不僅會激活材料表面，而且還會被蝕刻，并且蝕刻的表面顯示出最大的潤濕性。常用的處理氣體包括空氣、氧氣、氬氣、氬氫混合氣體和CF4。五。

氬氣等離子清潔設備

根據所用氣體的化學性質分為惰性氣體等離子體和惰性氣體等離子體、氬氣（AR）、氮氣（N2）、三氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）等惰性氣體。我可以做到.在清洗過程中，如活性氣體和氧氣（O2）、氫氣（H2），各種氣體的反應機理不同，活性氣體等離子體具有很強的化學反應性。以上是對等離子編輯器從兩個方面的解釋，希望能給朋友們更多的理解。。

等離子清洗機在工作時會發出一些輻射，但是這種輻射很小，對人體沒有傷害，而且由于等離子清洗機本身有輻射屏蔽罩，這種輻射是完全（完全）可以忽略不計的。此外，等離子機運行時，您不必總是側身站立。處理對象時，會自動顯示提示。腔內的粉紅色只是引入氬氣后出現的顏色，不發射輻射，因此無需擔心等離子清洗技術不區分金屬等基材類型的特性。 、半導體、氧化物和大多數聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、PVC、環氧樹脂。

..改變后，疏水材料的表面濕度得到了顯著改善。等離子清洗機是近年來發展迅速的一種對策，與其他對策相比具有許多優勢。等離子清洗機的工作原理是在真空狀態下，壓力越來越小，分子結構之間的距離越來越大，分子結構之間的作用力越來越小。氧氣、氬氣和氫氣與高反應性或高能離子碰撞，與有機化學或顆粒污染物反應或碰撞產生揮發物，由工作氣流和真空泵揮發，去除性物質，清潔和恢復表面。目的。

一種是氫氣或氧氣等反應性氣體，主要用于清潔金屬表面的氧化物進行還原反應。等離子清洗機引入的氧氣主要用于清洗物體表面的有機物。另一個是等離子清潔器充滿了非反應性氣體，如氬氣、氦氣和氮氣。氮等離子處理可以提高材料的硬度和耐磨性。氬和氦性質穩定，放電電壓低（氬原子的電離能E為15.57EV），易形成半穩定原子。一方面，等離子清潔器利用其高能粒子的物理作用來清潔易氧化或還原的物體。

氬氣等離子清潔

AR+沖擊污垢形成揮發性污垢并由真空泵排出，氬氣等離子清潔設備而半穩定原子是??易于使用的氬氣。形成后，當它與氧或氫分子碰撞時，發生電荷轉換和鍵合，形成作用于物體表面的活性氧原子和氫原子。雖然使用純氫氣對等離子清洗機的表面氧化物進行清洗是有效的，但這里主要考慮放電的穩定性和安全性，氬氫混合氣體對等離子清洗機應用的適用性有所增加。對于容易氧化還原的材料，等離子清洗機還可以將氧氣和氬氫氣的順序顛倒，達到徹底清洗的目的。