低溫等離子體技術在等離子體處理器中的應用；利用低溫等離子體表面處理技術和等離子體表面活化處理技術，電暈處理機模塊通過實驗室分析，等離子體處理器可以在材料表面獲得高性能、高涂覆率、強滲透性的均勻薄膜，并能在短時間內改變其表面附著力能。

一項新技術的成功應用，實驗室用塑料材質電暈處理機不僅要有實驗室給出的顯著效果，還要滿足工業化生產的需要，如時間、成本等。具體來看，目前印染行業有效寬度可達1.8米以上，連續加工速度需達到數十米/分鐘以上。只有在滿足這些基本條件的基礎上，等離子體設備才能實現工業化生產。但不容樂觀的是，實驗室小規模試驗的試驗條件與上述條件遠不匹配。例如，實驗室小樣品的加工時間通常為分鐘，或者加工環境為低氣壓，根本不能滿足實際生產的需要。

實驗表明，實驗室用塑料材質電暈處理機激發頻率為13.56MHz的氫氬混合氣體可以高效清理柔性電路板金屬材料層中的污垢，氫等離子體可以去除氧化物，氬可以通過電離增加氫等離子體的數量。為了比較清洗效果，Hsieh在175℃氧化銅線框，然后清洗，再用Ar/H2和Ar/H2(1:4)等離子體分別清洗2.5min和12min。測試結果表明，引線框架表面氧化物殘留量很少，氧含量為0.1at%。2.閥座蓋的清潔。

PCB封裝基板可分為存儲芯片封裝基板(eMMC)、微機電系統封裝基板(MEMS)、射頻模塊封裝基板(RF)、處理器芯片封裝基板和高速通信封裝基板。封裝襯底為襯底(SUP)。該襯底可為芯片提供電氣連接、保護、支撐、散熱、組裝等功能，電暈處理機模塊以達到多引腳、減小封裝產品體積、提高電氣性能和散熱、超高密度或多芯片模塊化等目的。

電暈處理機模塊

因此，利用現有成熟的等離子體清洗技術和裝備制造基礎，增加設備自動化功能，結合目前開發的常規等離子體清洗設備，參考國外設備結構，采用適合集成電路模塊的自動化清洗作業方式，制造適合大規模生產的集成電路在線清洗設備具有重要意義。有機高分子材料具有重量輕、比強度和比剛度高、力學性能可編程、抗疲勞等優點。優異的性能廣泛應用于航空、航天、汽車、電氣、石化等領域。

此外，由于襯底和裸芯片IC表面的潤濕性得到改善，LCD&MDASH；還可以提高COG模塊的附著力，也可以減少線路腐蝕的問題。二、血漿等離子清洗機在LCD行業中的應用離子體通常被稱為物質的第四態。前三種狀態是固體、液體和氣體，它們很常見，存在于我們周圍。離子體雖然在宇宙其他地方大量存在，但只存在于地球上的特定環境中。離子體的自然存在包括閃電和北極光。正如將固體轉化為氣體需要能量一樣，產生離子體也需要能量。

PBGA封裝擴展技術因其安裝固定效率高、熱電特性好而得到廣泛應用。等離子體清洗機在PBGA中的應用中，一個主要問題是界面剝離，如芯片/塑封材料與襯底焊料掩膜/塑封材料之間的界面剝離。PBGA封裝結構比傳統的外圍引線框架封裝，如塑料四邊形扁平封裝(PQFP)更為復雜。為了避免剝落，其多層界面要求很高的界面結合強度。通常，剝落首先發生在切屑的邊緣，短時間內，在應力的作用下，會向內擴散。

而且是產品升級的關鍵技術，例如光學元件的涂層，延長模具或加工工具壽命的抗磨層，復合材料的中間層，機織物或隱性鏡片的表面處理，微型傳感器的制造，超微力學的加工技術，人工關節、骨骼或心臟瓣膜的抗磨層，都需要等離子技術的進步才能研發完成。等離子體技術是等離子體物理、等離子體化學和氣固界面化學反應相結合的一個新興領域。

電暈處理機模塊

究其原因，電暈處理機模塊在氣速不變的情況下，低輸入電壓時電場加速電子的能量較低，低能態時總碰撞截面積也較低，因此CH4與高能電子的碰撞概率較小，導致活性物種較少。隨著放電電壓的增加，電離率和電子密度增加，高能電子與CH4的碰撞截面也增加，這意味著碰撞幾率增加，產生的CH活性物種數量增加。同時還注意到實驗過程中反應器壁積碳隨電壓升高而增加。。

它的控制器分為兩個部分：1）主機電源：有三種處理器主頻，實驗室用塑料材質電暈處理機分別對應40kHz、13.56MHz和2.45GHz，其中13.56MHz需要主機功率匹配器。2）系統控制部分：分為按鈕控制（半自動、全自動）、電腦控制、PLC（液晶觸摸屏控制）三大類2.真空室。真空室主要分為兩種材料：不銹鋼真空室。2）石英腔。3.真空泵。真空泵分為兩類：1）干燥泵。2）油泵。