另外兩種常用的氣體是氬氣和氦氣，氬氣等離子體清潔它們的優點是擊穿電壓低，等離子體穩定。其中，氬原子的電離能ε為15.75EV，氬等離子體中含有大量半穩態原子。理想的物理反應氣體。在實際清洗中，單獨使用物理或化學效果不好，是充入一種混合氣體，同時使用兩種或多種混合氣體可以獲得更好的清洗效果。例如，在氬和氧的組合中，氬離子使用物理沖擊來清潔表面。

真空泵的輸送系統、控制系統和其他部分通常使用旋轉油泵，氬氣等離子體清潔機器高頻電源通常使用 13.56 MHz 無線電波。該設備的操作過程如下。 (1) 固定清潔后的真空室，啟動操作裝置，開始排氣。真空室的真空度達到10Pa的標準真空度。正常排氣時間大約需要 2 分鐘。 (2) 將清洗氣體引入真空室，壓力保持在 Pa。可根據清洗劑選擇氧氣、氫氣、氬氣或氮氣。

通過三種方法（機械粗化法、氧、氮、氬氣低溫等離子表面改性和中間層法）對聚丙烯進行處理，氬氣等離子體清潔并考察了金屬聚合物對聚合物的粘合性能，結果為表面處理可以有效提高聚丙烯與銅的附著力，但等離子處理的效果更好，尤其是AR等離子，在聚丙烯聚合過程中，中間層是C-0鍵。包括強附著力。

等離子清洗設備中的非反應性氣體，氬氣等離子體清潔機器如氬氣、氦氣、氮氣。氮處理可以提高硬度和耐磨性。氬氦性質穩定，分子充放電工作電壓低，易產生亞穩態分子。當AR氣體與污染物碰撞時，會產生揮發性化學物質并由真空泵排出，以防止表面化學物質發生反應。氬氣往往是一種亞穩態分子，當它與氧原子碰撞時，會發生正電荷轉換和復合。純氫在等離子等離子設備中非常有效，但考慮到充放電的可靠性和安全性，氬氫化合物也可以用于等離子清洗機。

氬氣等離子體清潔

氣體輝光放電是與氣體電暈放電和電弧放電相關的放電狀態。它在真空中通過兩個電極（定量氣體）。常用的氣體是氬氣和氧氣的混合物。當施加的直流電壓超過初始值時，會發生放電電壓和輝光放電。在氣體輝光放電中，從陰極發射的電子經過電場，加速獲得能量，與氣體分子碰撞，激發氣體分子在等離子體區（等離子體區）產生大量的陽離子。喉部的濃度等于陽離子濃度，這些陽離子在電場的作用下被加速向陰極移動，撞擊靶材表面和薄膜。

常用案例有三種&MIDDOT；防水涂層&MDASH；環己烷&MIDDOT；類似PTFE材料的涂層---含氟處理氣體&MIDDOT；親水涂層---醋酸乙烯等離子表面處理的效果簡直就是用水，我們確認處理過的樣品表面完全被水潤濕。長時間的等離子處理（15 分鐘或更長時間）不僅會激活材料表面，還會對其進行蝕刻，蝕刻后的表面可提供最大的潤濕性。常用的處理氣體包括空氣、氧氣、氬氣、氬氫混合氣體和CF4。

在一些等離子清洗中，物理和化學反應都在表面反應機理、反應性離子腐蝕中起重要作用。腐蝕或反應離子束腐蝕，兩次清洗相互促進，離子撞擊損壞被清洗物體表面，削弱化學鍵或形成原子態，易吸收反應物，離子碰撞加熱和反應被清洗物體；效果不不僅選擇性、洗滌速度、均勻性更好，而且方向性更好。典型的等離子物理清洗工藝是氬等離子清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子氬氣不與表面反應，但會通過離子沖擊清潔表面。

基于以上影響和客戶的要求，我們將根據客戶的需求做出響應。系統服務響應客戶需求，實現更好的服務效益，解決客戶的后顧之憂！我正在使用等離子清潔器。使用氬氣是否有害？您可以從大氣壓等離子體的三種效果模式中進行選擇。一種是使用氬氣/氧氣組合，主要用于非金屬材料，對處理效果要求較高。第二種是主要在待處理產品的不可處理金屬區域使用氬/氮組合。由于氧氣的強氧化作用，控制了用這種方案代替氮氣后可能會出現這個問題。

氬氣等離子體清潔設備

二是采用氬氣/氮氣組合，氬氣等離子體清潔機器主要用于金線、銅線等各種金屬材料。氧氣的氧化使該方案在交換氮氣后有效地控制了這個問題。第三，如果只用氬氣，也可以只用氬氣進行表面改性，效果相對較弱。這是一種特殊情況，是少數工業客戶在需要有限且均勻的表面改性時使用的解決方案。 2. 安全易用。大氣壓等離子體也是低溫等離子體，不會損傷材料表面。例如，它可以處理對反面電阻敏感的 ITOFILM 材料。