通過它的處理，bopp無電暈處理啞光油可以提高材料表面的潤(rùn)濕性，使各種材料能夠進(jìn)行涂布、電鍍等操作，增強(qiáng)附著力和結(jié)合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。電暈廣泛應(yīng)用于電子、通訊、汽車、紡織、生物醫(yī)藥等方面。

氧電暈的形成過程可用以下六個(gè)反應(yīng)方程式表示：O2-O2+e(1)O2-2O(2)O2+E-O2+E(3)O2+E-O2+hv+e(4)O2+E-2O+e(5)O2+e--O+O++2E(6)第一個(gè)方程表示氧分子獲得外部能量后變成氧陽(yáng)離子，bopp薄膜表面電暈處理機(jī)釋放自由電子的過程。第二個(gè)方程表示氧分子獲得外部能量后分解形成兩個(gè)氧原子自由基的過程。第三個(gè)方程表明氧分子在高能激發(fā)自由電子的作用下轉(zhuǎn)變?yōu)榧ぐl(fā)態(tài)。

這是因?yàn)樵诿芗T電路中，bopp無電暈處理啞光油柵極之間的空間較窄，引入應(yīng)力接近技術(shù)前后，沉積后應(yīng)力層的體積明顯不同，而應(yīng)力層的體積與應(yīng)力層的應(yīng)力施加密切相關(guān)。應(yīng)力鄰近技術(shù)的蝕刻方法主要分為濕法蝕刻和電暈設(shè)備干法蝕刻。在電暈刻蝕過程中，源漏區(qū)的金屬硅化物總是暴露在外，金屬硅化物決定了源漏區(qū)的電阻。因此，在電暈設(shè)備去除側(cè)壁的過程中，必須嚴(yán)格控制金屬硅化物的損傷。由于側(cè)壁主要由氮化硅制成，濕法刻蝕主要采用熱磷酸溶液。

CO2轉(zhuǎn)化與高能電子和CO2分子之間的碰撞有關(guān)，bopp薄膜表面電暈處理機(jī)彈性或非彈性碰撞導(dǎo)致：(1)CO2的C-O斷裂形成CO和O：CO2+E*&Rarr；CO2+O+E(4-1)CH4對(duì)氧活性物種的消耗有利于反應(yīng)右移。（2）基態(tài)CO2分子吸收能量，轉(zhuǎn)變?yōu)榧ぐl(fā)態(tài)CO2分子。顯然，CO2的轉(zhuǎn)化主要依賴于前者。

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電暈在印刷電路板行業(yè)的應(yīng)用：醫(yī)療診斷行業(yè)電暈清洗劑應(yīng)用：醫(yī)療器械行業(yè)電暈清洗劑應(yīng)用：彈性體行業(yè)電暈清洗劑應(yīng)用：光學(xué)行業(yè)電暈清洗劑應(yīng)用：包裝行業(yè)；汽車制造；納米技術(shù)；精密儀器等。

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