平板垂直電極真空等離子體設備的電極結構；這種電極結構不能簡單地將水平電極轉換成垂直電極，chsf系列平板電暈處理機需要充分考慮金屬電極之間的間距、等離子體放電的均勻性、電極板的溫度控制、產品或材料的擺放等，產品的擺放通常有兩種方式：電極之間加夾子或掛鉤；在卡車上加一個夾子和鉤子來處理貨物。這種結構的等離子體放電均勻性優于水平電極。

等離子體表面處理系統目前應用于LCD、LED、IC、PCB、SMT、BGA、線框和平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子刻蝕機IC可顯著提高焊接強度，chsf系列平板電暈處理機降低電路失效的可能性。暴露在等離子體區域的殘留光阻劑、樹脂、溶液殘留物和其他有機污染物可以在短時間內被去除。PCB制造商使用等離子蝕刻系統來凈化和蝕刻鉆孔中的絕緣體。對于許多產品，是否用于工業。電子、航空、衛生等行業的可靠性取決于兩表面之間的結合強度。

等離子體技術在一般工業領域中的應用1.電子工業等離子體器件廣泛應用于半導體、生物醫學、納米（米）材料、光學電子、平板顯示、航空航天、科學研究和一般工業等領域。等離子體技術在一般工業領域中的應用1.電子工業A.充填：提高充填物的附著力。填充是指通過填充樹脂對電子元器件的保護。充填前的等離子體活化可確保良好的密封性，平板電暈處理機減少電流泄漏，并提供良好的粘接性能。填充提供絕緣，可防止濕度、高/低溫、物理和電子應力的影響。

C2H4和CH4產率隨等離子體注入功率的增加而增加不明顯，chsf系列平板電暈處理機這可能與C2H4和CH4是反應的主要反應產物以及C2H2具有較高的穩定性有關。表3-1 C-C和C-H化學鍵的離解能化學鍵離解能/(kJ/mol)離解能/(ev/mol)CH3&mdash；CH3367.83。8C2H5&mdash；H409.64。2CH2=CH2681。37.1 C2H3&mdash；H434.74。

chsf系列平板電暈處理機

在等離激元催化作用下，反應產物主要由第三體表面活性物種結合形成，即由第三體表面CHx結合形成C2烴類，由二氧化碳分解直接形成CO或由第三體表面兩種方式結合形成C和O（含氧）活性物質。顯然，催化劑對反應體系中各種自由基的吸附能力和合適的吸附位點將影響C2烴和CO的產率。對于Na2WO4/Y-Al203催化劑，C2烴的產率遠高于其他催化劑。

近年來，國際上涌現出許多應對環境問題的高新技術，如超聲波、光催化氧化、低溫等離子體、反滲透等，其中低溫等離子體作為一種高效、低能耗、大容量、操作簡單的新型環保技術，是近期研究的熱點。。低溫等離子體設備在紡織工業中的發展前景；羊毛織物經過CF4和CHF3等離子體處理后，表面化學組成發生變化，纖維表面增加了正電荷中心，使羊絨在水中處于電荷狀態。

等離子表面處理技術不僅可以清洗注塑時外殼留下的油污，塑料外殼表面可以最大程度活化，增強印刷、涂布等結合效果，使外殼上的涂層與基材連接牢固，涂布效果非常均勻，外觀更加美觀，耐磨性大大增強，長期使用也不會出現磨漆現象。2.耳機和耳機耳機中的線圈在信號電流的驅動下驅動振膜不斷振動。線圈與振膜以及振膜與耳機外殼的粘合效果直接影響到耳機的音效和使用壽命。

處理溫度較高時，表面特性變化較快，處理時間延長，極性基團會增加；但時間過長，表面可能產生分解產物，形成新弱界面層的冷等離子體裝置[5]是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離和分子或離子的自由運動距離越來越長，在電場作用下，碰撞形成等離子體，等離子體會發出輝光。因此稱為輝光放電處理。

平板電暈處理機

聚合物表面改性可以改變材料表面的化學性質，chsf系列平板電暈處理機但不會改變材料的整體性能。4.聚合物表面涂層通過工藝氣體聚合在材料基層表面形成等離子體涂層形成一層薄的等離子涂層。如果所使用的生產氣體由復合分子組成，如甲烷、四氟化物和碳，它們將在等離子體中分解形成自由的功能單體，這些單體將鍵合在聚合物表面，并重新結合以覆蓋聚合物表面。這種聚合物表面涂層能明顯改變表面的滲透率和摩擦力。

采用等離子涂層技術的優點；幾乎可以在任何材料表面加工特定的涂層可進行選擇性或局部涂布處理，chsf系列平板電暈處理機應用領域極其廣泛低成本材料可用于生產具有高質量特殊表面的低成本產品。。